半導體等離子清洗機
文章導讀:在半導體制程中,器件可能會沾染有機物、氧化層、粉塵、顆粒物等污染物,所以需要對這些污染物進行清洗,傳統(tǒng)的工藝時濕法清洗,通過化學溶劑進行處理,經(jīng)過多年的發(fā)展,等離子清洗得到了應用,設備利用高頻電場將氣體分子激發(fā)成等離子體,等離子體通過離子轟擊表面產(chǎn)生的化學反應和物理效應,清洗污染物。
半導體等離子清洗機是專業(yè)的半導體表面處理的設備,可以清洗晶圓、芯片、LED、銅支架等等半導體器件,有效地去除表面的污垢和有機物,同時也能增強表面的附著力和表面能,半導體等離子清洗機廣泛應用于半導體、光電、微電子等領域。
半導體等離子清洗機原理
在半導體制程中,器件可能會沾染有機物、氧化層、粉塵、顆粒物等污染物,所以需要對這些污染物進行清洗,傳統(tǒng)的工藝時濕法清洗,通過化學溶劑進行處理,經(jīng)過多年的發(fā)展,等離子清洗得到了應用,設備利用高頻電場將氣體分子激發(fā)成等離子體,等離子體通過離子轟擊表面產(chǎn)生的化學反應和物理效應,清洗污染物。
半導體等離子清洗機特點
1、高效:清洗效果快捷,短時間內能夠完成清洗工作;
2、多功能:處理清洗表面,還能夠提供表面改性活化的效果;
3、環(huán)保:干法處理工藝,不會造成污染,減少濕法工藝的溶劑處理的麻煩;
4、經(jīng)濟:設備使用成本低,使用壽命長,整體清洗成本非常實惠。
綜上所述,半導體等離子清洗機具有高效、環(huán)保、多功能和經(jīng)濟等特點,是一種廣泛應用于半導體制造過程的表面清洗設備。

在半導體制程中,器件可能會沾染有機物、氧化層、粉塵、顆粒物等污染物,所以需要對這些污染物進行清洗,傳統(tǒng)的工藝時濕法清洗,通過化學溶劑進行處理,經(jīng)過多年的發(fā)展,等離子清洗得到了應用,設備利用高頻電場將氣體分子激發(fā)成等離子體,等離子體通過離子轟擊表面產(chǎn)生的化學反應和物理效應,清洗污染物。

1、高效:清洗效果快捷,短時間內能夠完成清洗工作;
2、多功能:處理清洗表面,還能夠提供表面改性活化的效果;
3、環(huán)保:干法處理工藝,不會造成污染,減少濕法工藝的溶劑處理的麻煩;
4、經(jīng)濟:設備使用成本低,使用壽命長,整體清洗成本非常實惠。

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