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半導(dǎo)體封裝行業(yè)用到的等離子清洗設(shè)備有哪些種類?

返回列表 來(lái)源：普樂(lè)斯 瀏覽：次 發(fā)布日期：2018-11-14 10:36【大 中 小】
文章導(dǎo)讀：半導(dǎo)體封裝行業(yè)由于其特殊性，比之于常規(guī)的電子產(chǎn)品對(duì)等離子設(shè)備的等離子均勻性、Particle數(shù)量、UPH等指標(biāo)要求更高，一般要求在低壓（真空）狀態(tài)下進(jìn)行等離子清洗。
半導(dǎo)體封裝行業(yè)用到的等離子清洗設(shè)備一般可按如下方式分類：

1、按等離子清洗設(shè)備的運(yùn)行方式：分為獨(dú)立式等離子清洗設(shè)備和在線式等離子清洗設(shè)備
（1）獨(dú)立式（又叫離線式、單體式、批量式等）等離子清洗設(shè)備主要結(jié)構(gòu)包括：真空腔體（包含電極；又叫反應(yīng)腔、反應(yīng)倉(cāng)、反應(yīng)室等）、設(shè)備外殼、電氣控制系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、等離子發(fā)生器（包括電源和匹配器）和真空系統(tǒng)。

等離子清洗機(jī)設(shè)備1
 

（2）在線式（又叫連續(xù)式、不間斷式等）等離子清洗設(shè)備主要結(jié)構(gòu)包括：上下料推送機(jī)構(gòu)、上下料放置平臺(tái)、上下料提升系統(tǒng)、上下料傳輸系統(tǒng)、上下料撥料機(jī)構(gòu)、真空腔體、設(shè)備主體框架、電氣控制系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、等離子發(fā)生器（包括電源和匹配器）和真空系統(tǒng)。
 

等離子清洗設(shè)備2
 

在線式等離子清洗設(shè)備是在獨(dú)立式的基礎(chǔ)上，為滿足對(duì)表面處理均勻性、一致性品質(zhì)要求更高，以提高自動(dòng)化程度，減少人工參與等需要設(shè)計(jì)而成。

 

2、按等離子產(chǎn)生的激勵(lì)方式分為：電容耦合（CCP）、感應(yīng)耦合（ICP）和電子回旋共振（ECR）等

 

3、按等離子發(fā)生器的工作頻率來(lái)分：中頻（又叫低頻、超聲40?100KHz），高頻（又叫射頻13.56MHz），微波（2.45GHz）

 

發(fā)頻率與等離子自偏壓的關(guān)系
 



 

激發(fā)頻率與等離子密度的關(guān)系
 

等離子清洗設(shè)備4

不同頻率激發(fā)的等離子體特性和能量是不一樣的，對(duì)于側(cè)重物理清洗的產(chǎn)品，用中頻等離子清洗設(shè)備比較合適；側(cè)重化學(xué)清洗的產(chǎn)品，采用微波等離子清洗設(shè)備；化學(xué)物理反應(yīng)兼顧的，建議使用射頻等離子清洗設(shè)備。當(dāng)然，等離子激發(fā)頻率只是等離子產(chǎn)生的核心因素之一，等離子清洗設(shè)備的電極結(jié)構(gòu)、工藝氣體、真空度、處理時(shí)間等等，同樣是影響清洗效果的關(guān)鍵。

以上對(duì)于半導(dǎo)體封裝行業(yè)用到的等離子清洗設(shè)備的分類您同意嗎？您有什么異議或更好內(nèi)容呢？歡迎大家留言與我們交流和分享。

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