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等離子清洗機(jī)處理二氧化硅薄膜材料的過程是什么樣的？

返回列表 來源：普樂斯 瀏覽：次 發(fā)布日期：2020-03-18 09:09【大 中 小】
文章導(dǎo)讀：在使用等離子清洗機(jī)的等離子工藝對材料進(jìn)行輔助處理的過程中，氣相和固體表面上發(fā)生的化學(xué)反應(yīng)起到了關(guān)鍵性的作用。低溫等離子表面處理機(jī)在刻蝕二氧化硅薄膜時(shí)也是如此，等離子表面處理設(shè)備的典型反應(yīng)器中的發(fā)生過程如下圖所示。這里所標(biāo)注的通入氣體是四氟化碳和氧氣的混和物，等離子體由射頻或微波電場激發(fā)。
在使用等離子清洗機(jī)的等離子工藝對材料進(jìn)行輔助處理的過程中，氣相和固體表面上發(fā)生的化學(xué)反應(yīng)起到了關(guān)鍵性的作用。低溫等離子表面處理機(jī)在刻蝕二氧化硅薄膜時(shí)也是如此，等離子表面處理設(shè)備的典型反應(yīng)器中的發(fā)生過程如下圖所示。這里所標(biāo)注的通入氣體是四氟化碳和氧氣的混和物，等離子體由射頻或微波電場激發(fā)。
 等離子體處理二氧化硅薄膜反應(yīng)-普樂斯等離子清洗機(jī)
電子碰撞電離過程產(chǎn)生了各種離子，如CF3+、CF2+、O2+、O-和F-等；而電子碰撞分解過程產(chǎn)生了CF3、CF2、O和F等自由基。在氣相中和在二氧化硅表面上發(fā)生的化學(xué)反應(yīng)會產(chǎn)生另外一些分子，如CO、CO2、SiF2和SiF4等。這些粒子的濃度和能量分布影響著等離子表面處理機(jī)反應(yīng)器的性能指標(biāo)，如刻蝕速率、各向異性指數(shù)和選擇性等。
 等離子清洗機(jī)設(shè)備-普樂斯等離子體清洗機(jī)
一些普通物理化學(xué)過程決定了這些粒子的濃度。這些過程包括電子-離子對的產(chǎn)生；自由基的產(chǎn)生；負(fù)離子的產(chǎn)生；氣相化學(xué)反應(yīng)；離子向表面的輸運(yùn)；自由基向表面的輸運(yùn)；表面相反應(yīng)。整個(gè)反應(yīng)的過程用式子可以分別表達(dá)如下。
 二氧化硅材料等離子處理反應(yīng)表達(dá)式-普樂斯等離子清洗機(jī)
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    ‌環(huán)保節(jié)能‌：無需使用化學(xué)溶劑，減少廢水廢氣排放，符合綠色生產(chǎn)要求，且能耗低。

    ‌廣泛適用‌：適用于多種材料表面，包括金屬、陶瓷、玻璃、塑料等，不會對材料性能產(chǎn)生負(fù)面影響。

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