Plasma、電漿、等離子體三者有什么區(qū)別?
文章導(dǎo)讀:等離子體物理學(xué)的發(fā)展已經(jīng)有100多年的歷史,但對(duì)這種第四態(tài)物質(zhì)的認(rèn)識(shí)和利用還有很多未知的領(lǐng)域需要人類去不斷探索。普樂(lè)斯的小伙伴將其發(fā)展的歷程整理出來(lái),僅供參考:
1、1879年英國(guó)物理學(xué)家克魯克斯(Crockes)研究了真空放電管中的放電過(guò)程之后,提出了物質(zhì)第四態(tài)的存在。
2、1897年湯姆生(Thomson)發(fā)現(xiàn)了電子,從此對(duì)電有了科學(xué)的理解,并由此揭開(kāi)了粒子物理學(xué)的序幕。
3、從1897年到1918年第一次世界大戰(zhàn)結(jié)束等離子體地研究處于萌芽時(shí)期。
4、1918年到1930年等離子物理取得了一些最基本的成就,如法拉第(Faraday)觀察到了氣體輝光放電的過(guò)程。
5、1923年德拜(Debay)提出了屏蔽的概念,后人稱之為德拜屏蔽。
6、1929年朗繆爾(Langmuir)和湯克斯(Tonks)第一次引入“Plasma”這個(gè)詞來(lái)表示物質(zhì)第四態(tài),這個(gè)詞的原意是希臘文“模塑”的意思。生物學(xué)中用來(lái)作“血漿”、“原生質(zhì)”等意思,早年傳到中國(guó)臺(tái)灣開(kāi)始譯為“電漿”,后來(lái)被中國(guó)大陸譯成“等離子體”。
7、1941年阿爾芬(Alfven)創(chuàng)造了磁流體力學(xué)理論,并發(fā)現(xiàn)了阿爾芬波,在天體物理和空間物理及受控核聚變研究中得到廣泛應(yīng)用,并為此在1970年獲得諾貝爾獎(jiǎng)金。
8、1961年西屋實(shí)驗(yàn)室(Westing house)的磁流體發(fā)電實(shí)驗(yàn)達(dá)到預(yù)期的功率水平。
9、70年代初期出于工業(yè)和科學(xué)上的需求,等離子體對(duì)材料表面的改性成為近年來(lái)的一個(gè)重要的領(lǐng)域,越來(lái)越被人們重視。隨著等離子體進(jìn)入工業(yè)應(yīng)用,其再各個(gè)領(lǐng)域的優(yōu)勢(shì)逐漸地體現(xiàn)出來(lái)。相對(duì)比較成熟的等離子體技術(shù)包括:等離子體增強(qiáng)氣相沉積(PECVD)、等離子體刻蝕、等離子體源離子注入、等離子體噴涂、等離子體熔覆等等。
作為國(guó)產(chǎn)等離子清洗機(jī)的守望者,普樂(lè)斯8年專注等離子清洗機(jī)研制和材料表面改性!
以上關(guān)于等離子體發(fā)展歷史的描述對(duì)您有幫助嗎?您有什么異議或更好的內(nèi)容嗎?歡迎大家留言與我們交流和分享。
親,如果您對(duì)等離子清洗機(jī)感興趣或者想了解更多詳細(xì)信息,歡迎點(diǎn)擊普樂(lè)斯的在線客服進(jìn)行咨詢,或者直接撥打全國(guó)統(tǒng)一服務(wù)熱線400-816-9009,普樂(lè)斯恭候您的來(lái)電!
2、1897年湯姆生(Thomson)發(fā)現(xiàn)了電子,從此對(duì)電有了科學(xué)的理解,并由此揭開(kāi)了粒子物理學(xué)的序幕。
3、從1897年到1918年第一次世界大戰(zhàn)結(jié)束等離子體地研究處于萌芽時(shí)期。
4、1918年到1930年等離子物理取得了一些最基本的成就,如法拉第(Faraday)觀察到了氣體輝光放電的過(guò)程。
5、1923年德拜(Debay)提出了屏蔽的概念,后人稱之為德拜屏蔽。
6、1929年朗繆爾(Langmuir)和湯克斯(Tonks)第一次引入“Plasma”這個(gè)詞來(lái)表示物質(zhì)第四態(tài),這個(gè)詞的原意是希臘文“模塑”的意思。生物學(xué)中用來(lái)作“血漿”、“原生質(zhì)”等意思,早年傳到中國(guó)臺(tái)灣開(kāi)始譯為“電漿”,后來(lái)被中國(guó)大陸譯成“等離子體”。
7、1941年阿爾芬(Alfven)創(chuàng)造了磁流體力學(xué)理論,并發(fā)現(xiàn)了阿爾芬波,在天體物理和空間物理及受控核聚變研究中得到廣泛應(yīng)用,并為此在1970年獲得諾貝爾獎(jiǎng)金。
8、1961年西屋實(shí)驗(yàn)室(Westing house)的磁流體發(fā)電實(shí)驗(yàn)達(dá)到預(yù)期的功率水平。
9、70年代初期出于工業(yè)和科學(xué)上的需求,等離子體對(duì)材料表面的改性成為近年來(lái)的一個(gè)重要的領(lǐng)域,越來(lái)越被人們重視。隨著等離子體進(jìn)入工業(yè)應(yīng)用,其再各個(gè)領(lǐng)域的優(yōu)勢(shì)逐漸地體現(xiàn)出來(lái)。相對(duì)比較成熟的等離子體技術(shù)包括:等離子體增強(qiáng)氣相沉積(PECVD)、等離子體刻蝕、等離子體源離子注入、等離子體噴涂、等離子體熔覆等等。
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