等離子清洗技術(shù)介紹
文章導(dǎo)讀：等離子清洗技術(shù)具有高效、無污染、適用于多種材料等優(yōu)點(diǎn)，被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光學(xué)、航空航天等領(lǐng)域的清洗和表面處理。那么哪些參數(shù)需要重點(diǎn)關(guān)注呢？
等離子清洗機(jī)技術(shù)具有高效、無污染、適用于多種材料等優(yōu)點(diǎn)，被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光學(xué)、航空航天等領(lǐng)域的清洗和表面處理。那么哪些參數(shù)需要重點(diǎn)關(guān)注呢？
1、放電壓力：在低壓等離子體的情況下，放電壓力越高，等離子體密度越高，電子溫度越低。等離子體的清潔效果取決于等離子體的密度和電子溫度。例如，密度越高，清洗速度越快，電子溫度越高，清洗效果越高。因此，放電氣體壓力的選擇對(duì)于低壓等離子清洗工藝非常重要。
2、氣體種類：待處理基材及其表面污染物種類繁多，各種氣體排放產(chǎn)生的等離子清洗速度和清洗效果完全不同。因此，應(yīng)有針對(duì)性地選擇等離子體的工作氣體。例如，使用氧等離子體去除物體表面的油脂和污垢，或使用氫氬混合氣體等離子體去除氧化層。
3、放電功率：提高放電功率可以增加等離子體的密度和活性粒子的能量，從而提高清洗效果。例如，氧等離子體的密度受放電功率的影響很大。
4、暴露時(shí)間：待用等離子體清洗材料的暴露時(shí)間對(duì)其表面清洗效果和等離子體工作效率影響很大。曝光時(shí)間越長，清洗效果越高，但工作效率越低。而且太長了長時(shí)間清洗會(huì)損壞材料的表面。
5、傳輸率：在常壓等離子清洗過程中，處理大型物體時(shí)會(huì)出現(xiàn)連續(xù)傳輸?shù)膯栴}。因此，待清潔物體與電極之間的相對(duì)運(yùn)動(dòng)速度越慢，治療效果就越高。
6、其他：等離子清洗過程中的氣體分布、氣體流速、電極設(shè)置等參數(shù)也會(huì)影響清洗效果。因此，需要根據(jù)實(shí)際情況和清洗要求，設(shè)定具體合適的工藝參數(shù)。
2、氣體種類：待處理基材及其表面污染物種類繁多，各種氣體排放產(chǎn)生的等離子清洗速度和清洗效果完全不同。因此，應(yīng)有針對(duì)性地選擇等離子體的工作氣體。例如，使用氧等離子體去除物體表面的油脂和污垢，或使用氫氬混合氣體等離子體去除氧化層。
4、暴露時(shí)間：待用等離子體清洗材料的暴露時(shí)間對(duì)其表面清洗效果和等離子體工作效率影響很大。曝光時(shí)間越長，清洗效果越高，但工作效率越低。而且太長了長時(shí)間清洗會(huì)損壞材料的表面。
5、傳輸率：在常壓等離子清洗過程中，處理大型物體時(shí)會(huì)出現(xiàn)連續(xù)傳輸?shù)膯栴}。因此，待清潔物體與電極之間的相對(duì)運(yùn)動(dòng)速度越慢，治療效果就越高。
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