想了解等離子清洗機工作原理的看過了！
文章導(dǎo)讀：等離子清洗機是應(yīng)用于當(dāng)代半導(dǎo)體、薄膜/厚膜電路等行業(yè)在元件封裝前、芯片鍵合前的二次精密清洗設(shè)備，清洗效果影響最終產(chǎn)品的質(zhì)量。行業(yè)應(yīng)用非常廣泛，普樂斯小伙伴給大家介紹下等離子清洗機的基本原理。
等離子清洗機是應(yīng)用于當(dāng)代半導(dǎo)體、薄膜/厚膜電路等行業(yè)在元件封裝前、芯片鍵合前的二次精密清洗設(shè)備，清洗效果影響最終產(chǎn)品的質(zhì)量。行業(yè)應(yīng)用非常廣泛，普樂斯小伙伴給大家介紹下等離子清洗機的基本原理。
等離子清洗機所使用的工藝簡稱干法清洗，是設(shè)備利用射頻等離子源的激發(fā)，使工藝氣體激發(fā)成為離子態(tài)，與清洗材質(zhì)表面的污染物發(fā)生物理和化學(xué)反應(yīng)，通過真空泵將反應(yīng)產(chǎn)生的污染物排走，達到清洗效果。等離子清洗機的效果會影響產(chǎn)品的成品率。等離子清洗機工藝可應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)、薄膜電路、元器件封裝前、連接器粘接等行業(yè)的二次精密清洗。
等離子清洗機工藝可分為化學(xué)清洗、物理清洗及兩種混合清洗。針對不同行業(yè)的清洗產(chǎn)品可選擇相對應(yīng)的工藝氣體進行等離子表面處理。
1、化學(xué)等離子清洗
清洗反應(yīng)是以化學(xué)反應(yīng)為主的等離子體清洗。
可用氧氣等離子體經(jīng)過化學(xué)的反應(yīng)可以使非揮發(fā)性的有機物生成易揮發(fā)的H2O和CO2，化學(xué)式為：
也可用氫氣等離子體可以通過化學(xué)的反應(yīng)去除金屬表面的氧化層，清潔金屬的表面，化學(xué)式為：
2、物理等離子清洗
清洗反應(yīng)是以物理反應(yīng)為主的等離子體清洗。
氬氣離子在等離子產(chǎn)生的自偏壓環(huán)境下被加速從而帶有動能，然后離子轟擊清洗工件表面，用于去除氧化物和環(huán)氧樹脂的溢出物。
3、混合式等離子清洗
清洗反應(yīng)中物理反應(yīng)與化學(xué)反應(yīng)均起關(guān)鍵作用。
以上就是等離子清洗機工藝的原理，大家了解了嗎？
等離子清洗機所使用的工藝簡稱干法清洗，是設(shè)備利用射頻等離子源的激發(fā)，使工藝氣體激發(fā)成為離子態(tài)，與清洗材質(zhì)表面的污染物發(fā)生物理和化學(xué)反應(yīng)，通過真空泵將反應(yīng)產(chǎn)生的污染物排走，達到清洗效果。等離子清洗機的效果會影響產(chǎn)品的成品率。等離子清洗機工藝可應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)、薄膜電路、元器件封裝前、連接器粘接等行業(yè)的二次精密清洗。
等離子清洗機工藝可分為化學(xué)清洗、物理清洗及兩種混合清洗。針對不同行業(yè)的清洗產(chǎn)品可選擇相對應(yīng)的工藝氣體進行等離子表面處理。
1、化學(xué)等離子清洗
清洗反應(yīng)是以化學(xué)反應(yīng)為主的等離子體清洗。
可用氧氣等離子體經(jīng)過化學(xué)的反應(yīng)可以使非揮發(fā)性的有機物生成易揮發(fā)的H2O和CO2，化學(xué)式為：
也可用氫氣等離子體可以通過化學(xué)的反應(yīng)去除金屬表面的氧化層，清潔金屬的表面，化學(xué)式為：
2、物理等離子清洗
清洗反應(yīng)是以物理反應(yīng)為主的等離子體清洗。
氬氣離子在等離子產(chǎn)生的自偏壓環(huán)境下被加速從而帶有動能，然后離子轟擊清洗工件表面，用于去除氧化物和環(huán)氧樹脂的溢出物。
3、混合式等離子清洗
清洗反應(yīng)中物理反應(yīng)與化學(xué)反應(yīng)均起關(guān)鍵作用。
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