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等離子芯片清洗

返回列表 來源:普樂斯 瀏覽: 發(fā)布日期:2023-03-31 13:21【
文章導讀:等離子芯片清洗是常見的一種清洗方式,通過等離子體對芯片表面的污染物進行處理,去除氧化物、有機污染物、無機鹽等污染
等離子芯片清洗是常見的一種清洗方式,通過等離子體對芯片表面的污染物進行處理,去除氧化物、有機污染物、無機鹽等污染,具體操作步驟如下:
 
等離子清洗機需要處理的主板
 
1、準備工作:確定芯片的狀況,然后將它放入等離子清洗機中;
2、啟動等離子清洗機設(shè)備,通過等離子體進行表面處理;
3、等離子輝光放應(yīng),等待反應(yīng)結(jié)束,然后打開倉門;
4、取出產(chǎn)品,放入下一批次產(chǎn)品就可以了。
整個處理過程中最重要的就是等離子體了,通過等離子體的高能量離子和自由基,對芯片表面進行清洗,可以調(diào)節(jié)清洗功率、時間、配方等等參數(shù),找到合適的參數(shù)帶來最好的清洗結(jié)果。

 
普樂斯等離子清洗機放電中
 
等離子芯片清洗優(yōu)勢:
高效清洗:快速清洗芯片表面的污垢和氧化物,比傳統(tǒng)的化學清洗方法更加高效。
不會損傷芯片表面:非接觸式的清洗方法,不會對芯片表面造成損傷和磨損。
適用于多種材料:等離子清洗適用于多種材料,如硅、氮化硅、氧化鋁、聚酰亞胺等,具有很廣的適用范圍。 
綜上所述,等離子芯片清洗具有高效清洗、不損傷芯片表面、適用多種材料等優(yōu)勢,是一種非??煽康男酒逑捶椒ā?br />
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