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plasma等離子清洗設(shè)備介紹

返回列表 來源:普樂斯 瀏覽: 發(fā)布日期:2023-04-12 15:14【
文章導(dǎo)讀:plasma等離子清洗設(shè)備是一種利用高能等離子體進(jìn)行表面清洗和處理的設(shè)備;設(shè)備在真空環(huán)境下進(jìn)行運(yùn)行,將氣體激發(fā)成等離子體與物體表面進(jìn)行反應(yīng),帶來化學(xué)、物理等多種性質(zhì)效果,達(dá)到表面清洗、表面活化的目標(biāo)。
plasma等離子清洗設(shè)備(等離子清洗機(jī))是一種利用高能等離子體進(jìn)行表面清洗和處理的設(shè)備;設(shè)備在真空環(huán)境下進(jìn)行運(yùn)行,將氣體激發(fā)成等離子體與物體表面進(jìn)行反應(yīng),帶來化學(xué)、物理等多種性質(zhì)效果,達(dá)到表面清洗、表面活化的目標(biāo)。
plasma等離子清洗設(shè)備
plasma等離子清洗設(shè)備特點(diǎn)
1. 高效清洗:有效去除表面的有機(jī)和無機(jī)污染物,不會對被清洗物造成機(jī)械損傷。
2. 清洗質(zhì)量高:具有很強(qiáng)的化學(xué)反應(yīng)性和選擇性,能夠進(jìn)行特定污染物的處理。
3. 無殘留物:不會在被清洗物表面留下任何殘留物。
4. 操作簡便:具有自動化控制系統(tǒng),操作簡單方便,可以實(shí)現(xiàn)連續(xù)生產(chǎn)。
5. 適用范圍廣:適用于多種材料的清洗和表面改性,包括金屬、半導(dǎo)體、玻璃、陶瓷等。
plasma等離子清洗設(shè)備
plasma等離子清洗設(shè)備參數(shù)
設(shè)備型號:PM/R-110LN
控制系統(tǒng):PLC(標(biāo)配)/PC(可選)
整機(jī)規(guī)格:W1000×D1200×H1700mm
腔體尺寸: W500×D500×H450mm
真空計(jì):皮拉尼式真空計(jì)
額定功率:5KW
機(jī)臺供電:AC-380V
plasma等離子清洗設(shè)備
plasma等離子清洗設(shè)備廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、電子、光電、醫(yī)療、航空航天等領(lǐng)域的制造和研究中。其中,等離子體清洗技術(shù)已成為半導(dǎo)體微電子制造過程中不可或缺的工藝之一,可以有效地去除器件表面的有機(jī)和無機(jī)污染物,提高器件的可靠性和性能。

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    ‌高效徹底‌:能夠深入微納米級孔隙中,徹底清除難以觸及的污染物。

    ‌環(huán)保節(jié)能‌:無需使用化學(xué)溶劑,減少廢水廢氣排放,符合綠色生產(chǎn)要求,且能耗低。

    ‌廣泛適用‌:適用于多種材料表面,包括金屬、陶瓷、玻璃、塑料等,不會對材料性能產(chǎn)生負(fù)面影響。

    ‌工藝可控‌:通過調(diào)整工作氣體種類、壓力、功率等參數(shù),可精確控制清洗過程‌。


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