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等離子清洗機的引線框架實驗,哪種參數(shù)最合適的?

返回列表 來源:普樂斯 瀏覽: 發(fā)布日期:2022-07-20 13:56【
文章導讀:等離子清洗機在芯片封裝中實際應(yīng)用到底如何呢?我們選擇120片引線框架進行實驗,采用不同的工藝參數(shù)進行處理,通過水滴角測試儀進行測試,對比處理的效果,選擇出合適的工藝參數(shù)。
等離子清洗機在芯片封裝中實際應(yīng)用到底如何呢?我們選擇120片引線框架進行實驗,采用不同的工藝參數(shù)進行處理,通過水滴角測試儀進行測試,對比處理的效果,選擇出合適的工藝參數(shù)。
等離子清洗機
1、實驗開始
在常溫常壓條件下,將120只試驗的引線框架進行不同清洗工藝參數(shù)的等離子清洗,并通過接觸角測試儀進行清洗后的接觸角效果測試,找出最優(yōu)化的清洗工藝參數(shù)。
等離子清洗機
2、實驗過程
由于清洗試驗次數(shù)較多,本次清洗工藝試驗報告取五組工藝試驗進行對比。被清洗元件為銅引線框架,具體試驗步驟為每次清洗取上中下三個點進行接觸角測試,取平均值為最終接觸角測試結(jié)果。
水滴角測試儀
3、實驗結(jié)果
第一組配方在清洗完畢后進行接觸角測試,接觸角為19.78°。
第二組配方在清洗完畢后進行接觸角測試,接觸角為15.0°。
等離子清洗機
第三組配方在清洗完畢后進行接觸角測試,接觸角為13.5°。
第四組配方在清洗完畢后進行接觸角測試,接觸角為8.4°。
等離子清洗機
第五組配方在清洗完畢后進行接觸角測試,接觸角為21.5°。
等離子清洗機
由以上試驗得出的接觸角測試結(jié)果可以看出第四組試驗清洗效果最佳。
通過實驗我們可以了解到,同樣的產(chǎn)品在不同的等離子清洗機設(shè)備中,采用不同的工藝處理的效果都是不一樣的,客戶在選擇產(chǎn)品前,要先進行試樣,滿足自己的需求后,在決定設(shè)備的采購。

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