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普樂斯關注并看好芯片制造的巨大潛力

返回列表 來源:半導體行業(yè)觀察 瀏覽: 發(fā)布日期:2021-04-06 11:18【
文章導讀:根據(jù)IC Insight的報告,中國是全球最大的半導體市場,預計到2024年將占據(jù)全球半導體市場的40%,與此同時,預計在2024年,中國市場所使用芯片的國產(chǎn)化率將達到20.7%。在普樂斯看來,這兩組數(shù)據(jù)充分說明了中國芯片市場,特別是芯片制造市場的巨大潛力。
      根據(jù)IC Insight的報告,中國是全球最大的半導體市場,預計到2024年將占據(jù)全球半導體市場的40%,與此同時,預計在2024年,中國市場所使用芯片的國產(chǎn)化率將達到20.7%。在普樂斯看來,這兩組數(shù)據(jù)充分說明了中國芯片市場,特別是芯片制造市場的巨大潛力。

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      在過去發(fā)展的數(shù)十年當中,全球半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)生了許多變化。其中,晶圓代工廠的崛起使得半導體行業(yè)的制造中心向亞洲轉移。近些年來,芯片制造這一話題備受業(yè)界關注,而,與芯片制造相關的半導體材料、半導體設備等方面的發(fā)展均受到了業(yè)界的關注。這些領域被業(yè)界視為是半導體上游市場,也是芯片制造的關鍵,對于材料和設備的發(fā)展而言,過濾、分離市場則是這些領域的一個重要組成部分。
 
      眾所周知,光刻是半導體行業(yè)的關鍵技術驅(qū)動力,包括 DUV 光刻膠,頂部和底部抗反射涂層,浸沒式光刻的應都推動了工藝的進步。但在這個過程當中,每個步驟都有可能在晶圓表面引入有害顆粒污染、微氣泡空隙缺陷和金屬污染。這就使得光刻膠制造商需要粗濾過濾器和終端用戶使用的終端分配過濾器,來防止非預期顆粒在半導體芯片制造過程中沉積到晶圓表面。

      此外,芯片制造過程中所采用的其他材料也會影響最終晶圓生產(chǎn)的良率。其中包括了對晶圓表面平整度的要求的提升,因此,也促生了對CMP拋光材料的需求。而過濾器則是拋光系統(tǒng)中重要的一部分——一般情況下,半導體拋光系統(tǒng)內(nèi)通常需要3個漿料過濾器,用以去除較大的研磨顆粒,并維持所需的研磨顆粒配方和化學構成,實現(xiàn)許多不同半導體工藝性能的最大化。

      對于半導體設備本身來說,化學品對設備的侵蝕同樣也需要過濾器來保障其使用壽命??刂屏黧w發(fā)生污染會導致設備關機,甚至會影響生產(chǎn)效率,因此污染控制是半導體器件制造中最重要的問題之一。而過濾器則可將流體污染物降至最低,避免關鍵零件遭到破壞,確保機臺以峰值效率進行工作。

      在這種勢頭之下,中國半導體產(chǎn)業(yè)的成長也為普樂斯帶來新的發(fā)展機會。改革開放40年來,中國已經(jīng)在諸多領域?qū)崿F(xiàn)了從量變到質(zhì)變的突破,同時中國早已成為全球最大的電子消費品市場,全球最大的電子產(chǎn)品生產(chǎn)制造中心,在政策引導、資金支持、終端推動,三大合力之下,中國必將成為全球半導體產(chǎn)業(yè)的中堅力量。
 
      本文來自于半導體行業(yè)觀察,

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