3nm工藝節(jié)點上，廠商對此近期有何動作？普樂斯等離子清洗機觀察
文章導讀：在關于3nm工藝節(jié)點上的競爭中，各晶圓代工廠在保證良率的前提下，搶先進入量產階段一定程度上會帶來更大的競爭優(yōu)勢。因此，很多代工廠也在3nm工藝上進行了大量的投資。那么近期各廠商有哪些動作呢？普樂斯等離子清洗機觀察。
普樂斯等離子清洗機觀察，三星曾在去年宣布，將在未來10年內在包括代工服務在內的其邏輯芯片業(yè)務上投資上千億美元，以期望能夠超越臺積電，成為全球第1大芯片代工廠。而EUV是三星試圖超越臺積電的一大殺手锏，在7nm工藝上就已經率先得到使用了。按其計劃，到今年底V1生產線投資金額將達到60億美元。為了支持三星達成2030年南韓成為全球晶圓代工第1、IC設計市占率10%目標。
通過大量資金的投入，三星也率先公布了其在3nm上的進展。2019年三星宣布將在3nm節(jié)點放棄FinFET晶體管，轉向GAA環(huán)繞柵極晶體管工藝。據了解，采用GAA技術的3nm工藝可將核心面積減少45%，功耗下降50%，性能提高35%。據韓媒報道，三星電子已經成功開發(fā)了業(yè)界第1個3nm制程，預計將于2022年開啟大規(guī)模量產。
與三星相比，臺積電在3nm方面的消息比較少。另外英特爾在3nm上的消息則幾乎沒有。在投資方面，據有關報道稱，臺積電3nm工藝總投資500億美元，其中，建廠方面就將投資至少200億美元。在生產計劃方面，據外媒報道稱，受新冠肺炎疫情的影響，臺積電3nm試產線安裝被迫延后，原定6月裝機的安排將延遲到10月。在技術方面，臺積電相關3nm的消息還不十分明確。臺積電3nm更詳細的消息或將在其技術論壇上公布，但據近期的報道顯示，臺積電原定于相4月29日的技術論壇將推遲到8月24日舉行。以此來看，在今年晚些時間我們才能真切看到臺積電在3nm技術上的進展。
本文來源：半導體行業(yè)觀察 作者：蔣思瑩
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普樂斯電子10年專注研制等離子清洗機，等離子體清洗機，等離子清洗設備，常壓大氣和低壓真空型低溫等離子表面處理機，已通過ISO9001質量體系和歐盟CE認證，為電子、半導體、汽車、yi療等領域的客戶提供清洗，活化，刻蝕，涂覆的等離子表面處理解決方案，是行業(yè)內值得信賴的等離子清洗機廠家。如果您想要了解更多關于產品的詳細內容或在設備使用中有疑問，歡迎點擊普樂斯的在線客服進行咨詢，或者直接撥打全國統(tǒng)一服務熱線400-816-9009，普樂斯恭候您的來電！
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