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普樂(lè)斯15年專(zhuān)注等離子清洗機(jī)研制低溫等離子表面處理系統(tǒng)方案解決商

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國(guó)產(chǎn)硅片又獲重大進(jìn)展！等離子清洗機(jī)設(shè)備又一利好

返回列表 來(lái)源：普樂(lè)斯 瀏覽：次 發(fā)布日期：2019-07-01 09:14【大 中 小】
文章導(dǎo)讀：昨天，在杭州中芯晶圓半導(dǎo)體股份有限公司(以下簡(jiǎn)稱(chēng)“中芯晶圓”)，杭州迎來(lái)了首批8英寸半導(dǎo)體大硅片的順利下線(xiàn)。硅片是一種常見(jiàn)的等離子清洗機(jī)表面處理的基材之一。
“8英寸半導(dǎo)體硅片的首批下線(xiàn)，意味著國(guó)內(nèi)規(guī)模最大、技術(shù)最成熟的大硅片生產(chǎn)線(xiàn)在這里產(chǎn)生，明年二季度將達(dá)到月產(chǎn)35萬(wàn)枚的規(guī)模，填補(bǔ)行業(yè)短板。”中芯晶圓副總經(jīng)理徐新華透露，12英寸大硅片的生產(chǎn)因精密度比較高，預(yù)計(jì)明年上半年投入量產(chǎn)，成為我國(guó)首條擁有核心技術(shù)、真正可實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)的半導(dǎo)體國(guó)產(chǎn)硅片生產(chǎn)線(xiàn)，硅片刻蝕一般都會(huì)用到等離子清洗機(jī)，另外硅晶圓、玻璃基板、陶瓷基板、IC載板、銅引線(xiàn)框架等也是常見(jiàn)的處理樣品。
等離子清洗機(jī)-普樂(lè)斯等離子清洗機(jī)
半導(dǎo)體硅片是半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的關(guān)鍵材料之一，同時(shí)也是中國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)鏈中的一個(gè)短板。半導(dǎo)體硅片在硅材料純度，材料切割、打磨等加工過(guò)程的精度方面具有嚴(yán)苛要求，對(duì)于硅片生產(chǎn)商形成了很高的技術(shù)壁壘。目前全球半導(dǎo)體硅片供應(yīng)呈現(xiàn)寡頭壟斷的競(jìng)爭(zhēng)格局，特別在12寸大硅片上情況更為顯著。受制于硅材料純度和大硅片的生產(chǎn)良率，我國(guó)硅片廠商僅有少數(shù)具有量產(chǎn)能力。

作為投資60億元的重大投資項(xiàng)目，這家位于杭州錢(qián)塘新區(qū)的中芯晶圓，由日本Ferrotec株式會(huì)社、杭州大和熱磁電子有限公司及上海申和電子有限公司共同投資成立的中芯晶圓，是我國(guó)半導(dǎo)體大尺寸硅片生產(chǎn)的“標(biāo)桿工廠”。該工廠致力于成為中國(guó)大尺寸硅片生產(chǎn)的標(biāo)桿基地。該項(xiàng)目計(jì)劃將建設(shè)3條8英寸、2條12英寸半導(dǎo)體硅片生產(chǎn)線(xiàn)。其中8英寸生產(chǎn)線(xiàn)將成為目前國(guó)內(nèi)規(guī)模最大、技術(shù)最成熟的生產(chǎn)線(xiàn)，投產(chǎn)后預(yù)計(jì)月產(chǎn)45萬(wàn)片;12英寸半導(dǎo)體硅片生產(chǎn)線(xiàn)投產(chǎn)后預(yù)計(jì)月產(chǎn)24萬(wàn)片，將大大緩解我國(guó)硅片供應(yīng)不足的局面。由于涉及產(chǎn)線(xiàn)眾多，且規(guī)格高端，客戶(hù)對(duì)各標(biāo)段供應(yīng)商提出了極為嚴(yán)格的要求，并期待投產(chǎn)后便于統(tǒng)一管理，以保障生產(chǎn)的穩(wěn)定高效。

近年來(lái)，杭州集成電路產(chǎn)業(yè)已涵蓋設(shè)計(jì)、制造、封測(cè)、材料和裝備全產(chǎn)業(yè)鏈領(lǐng)域。今年一季度，杭州集成電路規(guī)上企業(yè)主營(yíng)業(yè)務(wù)收入79.14億元，同比增長(zhǎng)29.8%。

表面處理硅片樣品-普樂(lè)斯等離子清洗機(jī)

像中芯晶圓這樣在集成電路產(chǎn)業(yè)中屬制造一環(huán)，杭州發(fā)布了《關(guān)于制造業(yè)企業(yè)技術(shù)改造資金補(bǔ)助的實(shí)施細(xì)則》，細(xì)化制造企業(yè)技改政策內(nèi)容，對(duì)2018年1月1日以后開(kāi)工的實(shí)際投資額(設(shè)備、外購(gòu)技術(shù)、軟件投入)1000萬(wàn)元以上的制造業(yè)技術(shù)改造項(xiàng)目，按產(chǎn)業(yè)分類(lèi)分檔，分別給予20%、10%的比例和不超過(guò)1億元、5000萬(wàn)元的補(bǔ)助。

 

“集成電路產(chǎn)業(yè)是杭州數(shù)字經(jīng)濟(jì)中的核心，我們希望通過(guò)類(lèi)似這種項(xiàng)目的啟動(dòng)，讓杭州的集成電路產(chǎn)業(yè)躋身全國(guó)第一方陣，為杭州打造全國(guó)數(shù)字經(jīng)濟(jì)。



本文來(lái)源：半導(dǎo)體行業(yè)觀察
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等離子清洗機(jī)在光刻膠去除、打線(xiàn)（W/B）前清洗和塑封（Molding）前活化等工藝上都有應(yīng)用，能夠有效提高產(chǎn)品良率。普樂(lè)斯涉足半導(dǎo)體行業(yè)至今已有7年，合作客戶(hù)20余家，提供個(gè)性化的等離子表面處理工藝解決方案。

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    ‌高效徹底‌：能夠深入微納米級(jí)孔隙中，徹底清除難以觸及的污染物。

    ‌環(huán)保節(jié)能‌：無(wú)需使用化學(xué)溶劑，減少?gòu)U水廢氣排放，符合綠色生產(chǎn)要求，且能耗低。

    ‌廣泛適用‌：適用于多種材料表面，包括金屬、陶瓷、玻璃、塑料等，不會(huì)對(duì)材料性能產(chǎn)生負(fù)面影響。

    ‌工藝可控‌：通過(guò)調(diào)整工作氣體種類(lèi)、壓力、功率等參數(shù)，可精確控制清洗過(guò)程‌。


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    在材料及產(chǎn)品生產(chǎn)、加工、轉(zhuǎn)運(yùn)的過(guò)程中，材料表面由于存在靜電，表面會(huì)自帶或吸附微塵，影響成品質(zhì)量。隨著各行業(yè)表面潔 凈度要求不斷提高，對(duì)微小雜質(zhì)和粉塵的去除愈加重要。非接觸表面清潔有無(wú)接觸、設(shè)備小、成本低、耗材少、易實(shí)施等優(yōu)點(diǎn)，近年 來(lái)在各個(gè)行業(yè)均有較快的發(fā)展。

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    接觸角測(cè)量?jī)x是一種用于測(cè)量表面張力和潤(rùn)濕性能的儀器，廣泛應(yīng)用于化學(xué)、材料、生物等領(lǐng)域。接觸角測(cè)量?jī)x校準(zhǔn)規(guī)范是確保測(cè)試結(jié)果準(zhǔn)確可靠的重要環(huán)節(jié)。


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