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普樂斯15年專注等離子清洗機(jī)研制低溫等離子表面處理系統(tǒng)方案解決商

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臺(tái)積電或?qū)⒃?022年量產(chǎn)3nm工藝，普樂斯等離子清洗機(jī)

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文章導(dǎo)讀：普樂斯等離子清洗機(jī)根據(jù)C114、網(wǎng)易科技相關(guān)內(nèi)容，今年臺(tái)積電技術(shù)論壇以線上形式舉辦，臺(tái)積電總裁魏哲家在此次論壇上透露了臺(tái)積電的半導(dǎo)體制程規(guī)劃，或?qū)⒃?022年下半年量產(chǎn)3nm。
      普樂斯等離子清洗機(jī)根據(jù)C114通信網(wǎng)、網(wǎng)易科技相關(guān)內(nèi)容，今年臺(tái)積電技術(shù)論壇以線上形式舉辦，臺(tái)積電總裁魏哲家在此次論壇上透露了臺(tái)積電的半導(dǎo)體制程規(guī)劃，或?qū)⒃?022年下半年量產(chǎn)3nm。
臺(tái)積電或?qū)⒃?022年量產(chǎn)3nm工藝-普樂斯等離子清洗機(jī)
      在論壇上，魏哲家先生表示，臺(tái)積電的7nm晶圓出貨量已達(dá)到10億顆里程碑，在7nm工藝量產(chǎn)1年后，臺(tái)積電又推出了強(qiáng)xiao版7nm工藝即導(dǎo)入EUV；5nm工藝目前也正在加速量產(chǎn)，預(yù)計(jì)2021年，強(qiáng)xiao版5nm工藝也將量產(chǎn)。對(duì)應(yīng)的5nm工藝速度會(huì)比7nm提升15%，功耗下降30%，電晶體密度提升80%。據(jù)了解，4nm工藝也是在5nm工藝的基礎(chǔ)上，并且或?qū)⒃诿髂晁募径乳_始量產(chǎn)。
      明年，臺(tái)積電還將對(duì)3nm工藝進(jìn)行試產(chǎn)，預(yù)計(jì)可將在2022年下半年，正式量產(chǎn)3nm工藝。與當(dāng)前的5nm工藝相比，3nm的工藝速度可再次提升15%，功耗下降30%，電晶體密度提升70%。除3nm工藝的消息外，臺(tái)積電方面表示也已經(jīng)啟動(dòng)2nm全新制程的研發(fā)。
臺(tái)積電或?qū)⒃?022年量產(chǎn)3nm工藝-普樂斯等離子清洗機(jī)
本文來源：C114通信網(wǎng)、網(wǎng)易科技
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      普樂斯從2011年開始涉足半導(dǎo)體行業(yè)至今已有9年，專注研制等離子清洗機(jī)，等離子體清洗機(jī)，等離子清洗設(shè)備，常壓大氣和低壓真空型低溫等離子表面處理機(jī)，在光刻膠去除、打線即W/B前清洗和塑封即Molding前活化等工藝方面積累了較為豐富的等離子表面處理經(jīng)驗(yàn)，合作客戶接近20家，我們正努力成為半導(dǎo)體封裝領(lǐng)域的等離子表面處理工藝解決方案服務(wù)商。是行業(yè)內(nèi)值得信賴的等離子清洗機(jī)廠家。等離子表面處理過的樣品包括：硅晶圓、玻璃基板、陶瓷基板、IC載板、銅引線框架等。如果您想要了解更多關(guān)于產(chǎn)品的詳細(xì)內(nèi)容或在設(shè)備使用中有疑問，歡迎點(diǎn)擊普樂斯的在線客服進(jìn)行咨詢，或者直接撥打全國統(tǒng)一服務(wù)熱線400-816-9009，普樂斯恭候您的來電！

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    ‌環(huán)保節(jié)能‌：無需使用化學(xué)溶劑，減少廢水廢氣排放，符合綠色生產(chǎn)要求，且能耗低。

    ‌廣泛適用‌：適用于多種材料表面，包括金屬、陶瓷、玻璃、塑料等，不會(huì)對(duì)材料性能產(chǎn)生負(fù)面影響。

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