普樂斯等離子清洗設(shè)備行業(yè)觀察，3納米已漸行漸近
文章導(dǎo)讀：普樂斯等離子清洗設(shè)備行業(yè)觀察，大家都知道，制程越小，晶體管柵極越窄，功耗越低，而集成難度和研發(fā)成本也將加倍提升。3nm是一個(gè)將近物理ji限的節(jié)點(diǎn)，這需要產(chǎn)業(yè)鏈各個(gè)環(huán)節(jié)的努力。
普樂斯等離子清洗設(shè)備行業(yè)觀察，身為摩爾定律忠實(shí)的跟隨者與倡導(dǎo)者，臺(tái)積電、三星已經(jīng)挑起3nm的戰(zhàn)局。據(jù)了解，三星已經(jīng)完成了第1個(gè)3nm制程的開發(fā)，準(zhǔn)備2022年規(guī)模生產(chǎn)3nm芯片，先前臺(tái)積電也準(zhǔn)備2022年量產(chǎn)3nm。如果沒有意外，3nm芯片將在后年來臨，對(duì)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈提出新的挑戰(zhàn)。
有報(bào)道稱，三星已成功研發(fā)出第1個(gè)基于GAAFET的3nm制程，預(yù)估2022年進(jìn)入量產(chǎn)。與7nm工藝相比，3nm工藝可將核心面積減少45%，功耗降低50%，性能提升35%。按照三星的研發(fā)路線圖，在6nmLPP之后，還有5nmLPE、4nmLPE兩個(gè)節(jié)點(diǎn)，隨后進(jìn)入3nm節(jié)點(diǎn)，分為GAE(GAAEarly)以及GAP(GAAPlus)兩代。去年5月，三星的3nmGAE設(shè)計(jì)套件0.1版本已經(jīng)就緒，以協(xié)助客戶盡快啟動(dòng)3nm設(shè)計(jì)。三星預(yù)估該技術(shù)將在下一代手機(jī)、網(wǎng)絡(luò)、自動(dòng)駕駛、人工智能及物聯(lián)網(wǎng)等設(shè)備中應(yīng)用。
以2022年量產(chǎn)為目標(biāo)的臺(tái)積電，也在按計(jì)劃推進(jìn)3nm研發(fā)。臺(tái)積電ceoCCWei曾表示，臺(tái)積電在3nm節(jié)點(diǎn)技術(shù)開發(fā)進(jìn)展順利，已經(jīng)與早期客戶進(jìn)行接觸。臺(tái)積電投資6000億新臺(tái)幣的3nm寶山廠也于去年通過了用地申請(qǐng)，預(yù)估2020年動(dòng)工，2022年量產(chǎn)。
臺(tái)積電在7nm節(jié)點(diǎn)取得了jue對(duì)優(yōu)勢(shì)，在5nm也進(jìn)展順利，獲得了蘋果A14等訂單。但三星并沒有放松追逐的腳步，準(zhǔn)備到2030年前在半導(dǎo)體業(yè)務(wù)投資1160億美元，以增強(qiáng)在非內(nèi)存芯片市場(chǎng)的實(shí)力。臺(tái)積電創(chuàng)始人張忠謀此前對(duì)媒體表示，臺(tái)積電與三星的戰(zhàn)爭(zhēng)都還沒結(jié)束，臺(tái)積電僅僅 贏得了一兩場(chǎng)戰(zhàn)役，可整個(gè)戰(zhàn)爭(zhēng)都還沒贏，目前臺(tái)積電暫時(shí)占優(yōu)。
本文來源：中國(guó)電子報(bào) 作者：張心怡
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普樂斯電子10年專注研制等離子清洗機(jī)，等離子表面處理設(shè)備，已通過ISO9001質(zhì)量體系和歐盟CE認(rèn)證，為電子、半導(dǎo)體、汽車、yi療等領(lǐng)域的客戶提供清洗，活化，刻蝕，涂覆的等離子表面處理解決方案，是行業(yè)內(nèi)值得信賴的等離子清洗機(jī)廠家。如果您想要了解更多關(guān)于產(chǎn)品的詳細(xì)內(nèi)容或在設(shè)備使用中有疑問，歡迎點(diǎn)擊普樂斯的在線客服進(jìn)行咨詢，或者直接撥打全國(guó)統(tǒng)一服務(wù)熱線400-816-9009，普樂斯恭候您的來電！
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