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?臺(tái)積電5nm投資進(jìn)程加速

返回列表 來(lái)源:普樂斯 瀏覽: 發(fā)布日期:2019-10-15 09:22【
文章導(dǎo)讀:晶圓代加工龍頭品牌臺(tái)積電第③季法人說(shuō)明會(huì)將于17日亮相,由總裁魏哲家及新一任財(cái)務(wù)長(zhǎng)黃仁昭一同組織。臺(tái)積電2019年資本性支出保持在110億美元高標(biāo)準(zhǔn),市場(chǎng)預(yù)測(cè)將焦聚5奈米大融資計(jì)劃,涉及Fab 18廠第1期于2020年3月之后進(jìn)到量產(chǎn),第2期及第3期產(chǎn)量建置會(huì)在明、后2年完成任務(wù)并投入量產(chǎn),2022年全產(chǎn)量投片下5納米晶圓年產(chǎn)量將逾100萬(wàn)片經(jīng)營(yíng)規(guī)模。
機(jī)器設(shè)備從業(yè)者推估臺(tái)積電2020年資本性支出將上看120~130億美元,其關(guān)鍵項(xiàng)目投資是5nm極紫外光(EUV)產(chǎn)量建置,且2021年資本性支出將因Fab 18廠3nm項(xiàng)目運(yùn)行而不斷提高。
法人比較看好涉及廠務(wù)工程廠漢唐、可再生晶圓廠昇陽(yáng)半及中砂、EUV光罩盒廠商登、晶圓測(cè)試卡廠精測(cè)、硅晶圓廠環(huán)球晶、測(cè)試服務(wù)廠宜特及閎康等臺(tái)積電大聯(lián)盟同伴直接受益。

臺(tái)積電5nm可說(shuō)是集技術(shù)之大成。其7nm升級(jí)版(N7+)已採(cǎi)用EUV微影技術(shù)量產(chǎn),因已踏過(guò)新技術(shù)應(yīng)用學(xué)習(xí),5nm導(dǎo)入到EUV速度加速且良率提高適用預(yù)計(jì)。與7奈米制程相比,5nm晶片相對(duì)密度提升80%,在相同運(yùn)算效率下可降低15%功耗,在相同功耗下可提升30%運(yùn)算效率。而且,5nm也第1次選用極低臨界電流電壓(ELVT)電晶體的超低功耗設(shè)計(jì),在ELVT運(yùn)算下仍可以提高升25%運(yùn)算效率。
臺(tái)積電晶圓代工5nm制程加速-普樂斯等離子清洗機(jī)
其次,臺(tái)積電會(huì)在5nm量產(chǎn)后1年發(fā)布5nm升級(jí)版(N5+),與5nm制程相比,在相同功耗下可再提高7%運(yùn)算效率,或在相同運(yùn)算效率下可再降低15%功耗。N5+制程將在2020年第1季開始試生產(chǎn),2021年進(jìn)到量產(chǎn)。

臺(tái)積電亦會(huì)在5nm制程時(shí)代,配搭發(fā)布3D芯片封裝制程,以順應(yīng)企業(yè)客戶在高xiao率運(yùn)算及5G等應(yīng)用要求,當(dāng)中包含同樣晶片規(guī)格及製程的晶圓疊加晶圓封裝、芯片疊加在晶圓上的系統(tǒng)優(yōu)化單芯片封裝等2大主軸。業(yè)界比較看好臺(tái)積電3D芯片疊加封裝預(yù)案,可以優(yōu)化多條十分毗鄰的異構(gòu)小芯片并保證更好的系統(tǒng)效率。
?臺(tái)積電5nm投資進(jìn)程加速-普樂斯等離子清洗機(jī)
據(jù)法人預(yù)測(cè),臺(tái)積電將5nm是7nm之后重大結(jié)點(diǎn),在芯片相對(duì)密度、運(yùn)算效率、降低功耗等各層面提高均有明顯效益,涉及蘋果、華為海思、超微、賽靈思(Xilinx)、英偉達(dá)(NVIDIA)、博通等大客戶都要委由臺(tái)積電量產(chǎn)5納米芯片或處理器,至于高通5nm訂單預(yù)計(jì)也將重回臺(tái)積電投片。

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