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下篇-常壓DBD等離子運(yùn)用在金屬絲退火上的工藝探討

返回列表 來源:普樂斯 瀏覽: 發(fā)布日期:2019-07-01 08:38【
文章導(dǎo)讀:通過實(shí)驗(yàn)裝置分解和結(jié)論討論,我們對(duì)常壓DBD介質(zhì)阻擋等離子給金屬絲退火的原理和影響因素有了一定了解,等離子退火的溫度和效能與介質(zhì)的材料、厚度、尺寸、長度等因素有重要關(guān)系,而受頻率的影響并不大。本篇主要通過建立等效電路模型來進(jìn)一步探討相關(guān)知識(shí)。
一、常壓DBD介質(zhì)阻擋等離子體反應(yīng)器的等效電路模型
在這一部分中,等效電路模型用于分析細(xì)銅線退火溫度對(duì)
常壓DBD等離子體的依賴。通過分析模型,可以確定退火溫度的主要因素是在導(dǎo)線表面的離子轟擊。在計(jì)算常壓DBD介質(zhì)阻擋等離子體反應(yīng)器內(nèi)細(xì)銅絲的平均溫度的函數(shù)包括介質(zhì)直徑、介電材料,施加的電壓,離子的質(zhì)量和氣體導(dǎo)熱系數(shù)。介質(zhì)對(duì)金屬絲退火的影響是用來分析模型與實(shí)驗(yàn)比較。 
 
二、常壓DBD介質(zhì)阻擋等離子體反應(yīng)器的放電機(jī)制
在常壓DBD介質(zhì)阻擋等離子體反應(yīng)器中,電子和離子的運(yùn)動(dòng)會(huì)形成放電電流特性。圖1顯示了放電電流在外加電壓9千伏(KV)氧化鋁(Al2O3)介質(zhì)中的反射。
放電電流在介質(zhì)中的反射-普樂斯等離子清洗機(jī)
剛開始放電時(shí),隨著外加電壓的增加,dV/dt>0,放電電流流過放電間隙增大。電子和離子瞬間向陽極和陰極運(yùn)行,并沉積在其上,形成兩個(gè)空間電荷。電子和離子空間電荷分離產(chǎn)生的內(nèi)部電場。這個(gè)電場隨外加電壓的增加,外部電場成反比。
 
當(dāng)增量電壓達(dá)到峰值,dV/dt=0,放電電流(位移電流)穿過放電間隙為零,內(nèi)部的電場強(qiáng)度達(dá)到最大值,形成反向電流。當(dāng)dV/dt<0時(shí),反向電流的存在,直到電壓達(dá)到局部底值(dV/dt = 0)。當(dāng)瞬間電壓再次增加時(shí),這個(gè)過程又開始了。
 
從實(shí)驗(yàn)中看,放電氣體的電流分布是一個(gè)不變的正弦曲線,由于位移電流占主導(dǎo)地位,其總電流變寬。在圓柱常壓DBD介質(zhì)阻擋等離子體反應(yīng)器放電的電壓電流行為與一個(gè)RLC串聯(lián)電路相同。
 
常壓DBD介質(zhì)阻擋等離子體退火系統(tǒng)的放電特性以總放電電流為代表,其中包括總的位移電流和傳導(dǎo)電流。從圖1看到,負(fù)極電流周期比正極具有更高的整形器的峰值電流,這導(dǎo)致的結(jié)論是,在負(fù)周期的傳導(dǎo)電流高于正周期。它也表明,在總電流波形和電壓波形的相位差是接近90度,這說明位移電流在總電流中占很大比例。
在常壓DBD介質(zhì)阻擋等離子體中,小的傳導(dǎo)電流是因?yàn)榻橘|(zhì)的電阻率高。圖1還顯示了外加電壓時(shí)位移電流(正弦形分布)和傳導(dǎo)電流(窄峰)的變化。從當(dāng)前電流波形顯示,在每半周期的波形具有多峰,每一個(gè)峰值放電時(shí)具有正弦形狀。這種特性不同于微放電模型(包含許多非常小的,短暫的(納秒級(jí)),電流細(xì)導(dǎo)線)。
 
在我們的實(shí)驗(yàn)中,所有三個(gè)放電氣體的電流分布是一個(gè)不變的正弦曲線,由于位移電流占主導(dǎo)地位,總電流變得非常寬。因此,圓筒形常壓DBD介質(zhì)阻擋等離子體反應(yīng)器氦氣、氬氣和氮?dú)獾姆烹?,可以用一個(gè)等效RLC串聯(lián)電路建模。
 
三、常壓DBD介質(zhì)阻擋等離子體反應(yīng)器結(jié)構(gòu)與等效電路模型
常壓DBD介質(zhì)阻擋等離子體退火的放電特性和等離子體反應(yīng)器的物理結(jié)構(gòu)相結(jié)合,其等效電路模型,形成一個(gè)RLC電路的總阻抗的串聯(lián)和并聯(lián)電路模型之間的組合。放電機(jī)理的相應(yīng)主體部分表明等離子體反應(yīng)器可分為三個(gè)部分:(1)介電壁,(2)動(dòng)態(tài)鞘層,(3)等離子主體 ,如圖2、3、4所示。
等離子體反應(yīng)器的介電壁部分-普樂斯等離子清洗機(jī)
介質(zhì)的阻抗、電離化(ZP)和非電離氣體電容Cg顯示在圖3。
反應(yīng)示意圖-普樂斯等離子清洗機(jī)
介質(zhì)的阻抗,鞘層和等離子體的主體如圖4。
主體示意圖-普樂斯等離子清洗機(jī)
在該介質(zhì)的阻抗是介電電容和介電加熱電阻的并聯(lián)組合,鞘層的阻抗是鞘層電容和離子電流在鞘層中的離子加熱電阻的并聯(lián)組合,等離子體的阻抗是等離子電阻(僅由流光加熱的歐姆加熱)和帶圓筒形空間電容Cp的并聯(lián)組合。二極管,Da和Db是用于指定輸入電壓的符號(hào)。放電前的反應(yīng)器的氣體電容也被連接到平行Cg。 
 
四、常壓DBD介質(zhì)阻擋等離子體退火對(duì)介電材料的依賴性
基于等離子加熱功率的假設(shè),從模型中的細(xì)導(dǎo)線溫度可通過方程計(jì)算:
細(xì)導(dǎo)線溫度計(jì)算公式-普樂斯等離子清洗機(jī)
在Vin(t)是施加電壓,Iin(t)是總的放電電流,q是離子的電荷,M為離子的質(zhì)量,L是反應(yīng)器的長度,ra、rb、rc和rs分別表示細(xì)導(dǎo)線半徑、介質(zhì)內(nèi)半徑、介質(zhì)外半徑和鞘層半徑,β是表格函數(shù)的時(shí)變率ra /rs,λ是放電氣體的導(dǎo)熱系數(shù),F(xiàn)是施加電壓的頻率,V是銅線速度,T0是銅線進(jìn)入等離子體反應(yīng)器前的溫度,Cv是比熱容,ρ是密度,Aa和Ab是細(xì)導(dǎo)線和介質(zhì)的橫截面,Tw是導(dǎo)線表面溫度。Zdie是介質(zhì)導(dǎo)納是并行相結(jié)合的介電電容Zd和介電加熱Rd。
Zdie計(jì)算公式-普樂斯等離子清洗機(jī)
圓筒形幾何介質(zhì)電容Cd
Cd計(jì)算公式-普樂斯等離子清洗機(jī)
在Kd的介電常數(shù)。介電加熱電阻Rd是由在電介質(zhì)加熱中得到的功率損耗Pd
Rd計(jì)算公式-普樂斯等離子清洗機(jī)
其中Ad是介質(zhì)面積,d為介質(zhì)厚度,tanδ是損耗角正切值,f為施加電壓的頻率。
 
五、模擬結(jié)果與討論
對(duì)于一個(gè)典型的實(shí)驗(yàn)測試,數(shù)值計(jì)算結(jié)果與實(shí)驗(yàn)中的相同的輸入?yún)?shù)進(jìn)行了計(jì)算。方程(4)是用來計(jì)算銅導(dǎo)線平均溫度在常壓DBD介質(zhì)阻擋等離子體反應(yīng)器作為介電材料的參數(shù)的函數(shù)。圖2、3、4中的數(shù)據(jù)被用作輸入電流參數(shù)來分析電介質(zhì)材料和頻率對(duì)導(dǎo)線溫度的影響。
 
5-1 常壓DBD介質(zhì)阻擋等離子退火溫度對(duì)頻率的依賴性
圖5顯示退火溫度和輸入頻率之間的弱正相關(guān)關(guān)系。當(dāng)頻率從25千赫到40千赫的頻率增加時(shí),退火溫度的增量只增加了10℃,與實(shí)驗(yàn)結(jié)果相比,我們可以看到有相同的結(jié)果。因此,我們估計(jì)頻率對(duì)退火溫度沒有什么影響。 
退火溫度和輸入頻率之間的關(guān)系-普樂斯等離子清洗機(jī)
5-2 常壓DBD介質(zhì)阻擋等離子退火溫度對(duì)介電材料的依賴性
圖6顯示了退火溫度對(duì)電介質(zhì)材料,玻璃和氧化鋁的依賴性。仿真結(jié)果表明,在達(dá)到退火溫度時(shí),氧化鋁介質(zhì)比玻璃介質(zhì)的是更有效的。這一結(jié)果也與實(shí)驗(yàn)結(jié)果相同。我們可以得出這樣的結(jié)論:介電層材料影響退火和清洗結(jié)果。具有更高介電常數(shù)的介電材料可更有效地達(dá)到退火溫度。
退火溫度對(duì)介電材料的依賴性-普樂斯等離子清洗機(jī)
六、結(jié)論
通過上述實(shí)驗(yàn)和研究可以預(yù)測,常壓DBD等離子放電對(duì)細(xì)銅絲等金屬絲退火和清洗市場應(yīng)用潛力值得挖掘。常壓DBD介質(zhì)阻擋等離子退火細(xì)銅絲的新模式也為RLC等效電路;介電材料和介電層厚度是影響退火和清洗細(xì)金屬絲的兩個(gè)參數(shù)。對(duì)于最佳的退火條件下,更薄的介電層厚度,更高的介電常數(shù)可更有效獲得延伸率和清潔的表面。此外,介電質(zhì)對(duì)外加電源的頻率的依賴關(guān)系也被認(rèn)為。結(jié)果表明,該頻率對(duì)介質(zhì)和退火效果有一定影響。


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