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普樂斯等離子清洗機(jī)射頻微等離子體的結(jié)構(gòu)特點(diǎn)有哪些？

返回列表 來源：普樂斯 瀏覽：次 發(fā)布日期：2020-04-02 10:32【大 中 小】
文章導(dǎo)讀：當(dāng)射頻大氣壓輝光放電的間隙縮小到微等離子體的尺度內(nèi)，即為一毫米左右，甚至幾百微米的量級(jí)，射頻微等離子體又會(huì)出現(xiàn)哪一些新的特點(diǎn)呢？接下來普樂斯等離子清洗機(jī)與大家共同探討。
當(dāng)射頻大氣壓輝光放電的間隙縮小到微等離子體的尺度內(nèi)，即為一毫米左右，甚至幾百微米的量級(jí)，射頻微等離子體又會(huì)出現(xiàn)哪一些新的特點(diǎn)呢？接下來普樂斯等離子清洗機(jī)與大家共同探討。如下圖所示，是在相同的電流下，射頻微等離子體鞘層區(qū)與等離子體區(qū)的分布比例。在給定電流密度0.06A/cm2，當(dāng)放電間隙逐步提升，實(shí)驗(yàn)與計(jì)算均反映鞘層開始逐步提升，而當(dāng)極板間隙提升大于500μm后，鞘層厚度基本上保持在215μm保持不變。而對(duì)于等離子體區(qū)的厚度，其從100μm到900μm一直在單調(diào)提升。
普樂斯等離子清洗機(jī)射頻微等離子體的結(jié)構(gòu)特點(diǎn)有哪些？
根據(jù)上圖我們得知，當(dāng)?shù)入x子清洗機(jī)放電間隙小于500μm時(shí)，放電等離子體由傳統(tǒng)化的輝光放電結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)換為1種鞘層主導(dǎo)的結(jié)構(gòu)，即鞘層成為放電空間的主要部分。同時(shí)，數(shù)值模擬還反映，在鞘層主導(dǎo)的放電結(jié)構(gòu)中，整個(gè)放電空間喪失了電中性，表現(xiàn)為電正性，如下圖所示。
普樂斯等離子清洗機(jī)射頻微等離子體的結(jié)構(gòu)特點(diǎn)有哪些？
假如想在射頻微等離子體中繼續(xù)得到正常的輝光結(jié)構(gòu)，確保放電間隙內(nèi)的電中性，提升放電頻率是1種行得通的方法。下圖給出了在不同頻率下兩個(gè)周期電子密度的時(shí)空分布。圖中顯示，當(dāng)頻率為13.56MHz時(shí)，只有在電極附近才有大量的電子，其密度近似3.06×1011cm-3。
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而當(dāng)頻率提升到27.12MHz時(shí)，產(chǎn)生的3.15×1011cm-3的電子密度在極板間伴隨外加電壓的改變反復(fù)振蕩，從1個(gè)極板到另1個(gè)極板，基本上占據(jù)了整個(gè)間隙。伴隨頻率進(jìn)一步提升到54.24MHz，在放電間隙產(chǎn)生的高密度電子，形成1個(gè)穩(wěn)定的中性等離子體區(qū)。這些數(shù)據(jù)反映，伴隨頻率的提升，放電結(jié)構(gòu)發(fā)生改變，傳統(tǒng)化的輝光結(jié)構(gòu)能夠出現(xiàn)。

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