【普樂(lè)斯】半導(dǎo)體封裝真空等離子表面處理設(shè)備-VPC-500F
名稱:半導(dǎo)體封裝真空等離子表面處理設(shè)備
型號(hào):VPC-500F
規(guī)格:920mm(W)×1030mm(D)×1720mm(H)
功率: 約4 KW
用途:半導(dǎo)體封裝真空等離子清洗機(jī)主要各種半導(dǎo)體封裝廠家定制,用于打線、封膠、植球前的基板清洗,提高產(chǎn)品良率;對(duì)于銅支架打銅線的工藝效率尤為明顯。
產(chǎn)品特點(diǎn)
2、直接將料盒放入真空腔體內(nèi)清洗,提升生產(chǎn)效率;
3、增加貼片工序的表面粘接強(qiáng)度,提升壓焊工序的鍵合力,減少塑封工序的分層現(xiàn)象等。
產(chǎn)品參數(shù)
機(jī)臺(tái)配置 | 規(guī)格描述 | 產(chǎn)地 | 備注 |
---|---|---|---|
機(jī)臺(tái)整機(jī)規(guī)格 | 920mm(W)×1030mm(D)×1720mm(H) | 普樂(lè)斯 |
1、工作真空度:20-60Pa
2、真空泵ji限壓力:4.0×10-1Pa 3、抽真空時(shí)間:≤50S 4、破真空時(shí)間:20-40S 5、供氣方式:電磁閥式 6、流量計(jì)調(diào)節(jié)范圍:0-300Sccm(毫升/分鐘 7、產(chǎn)能:根據(jù)產(chǎn)品規(guī)格而定 8、處理時(shí)間:工藝不同,處理時(shí)間不同 9、操作方式:人工取放工件,一鍵啟動(dòng)自動(dòng)控制 |
真空室規(guī)格 | 435mm(W)×425mm(D)×540mm(H)可根據(jù)產(chǎn)品定制 | 普樂(lè)斯 | |
料盒 | 4PCS | 定制 | |
自動(dòng)控制系統(tǒng) | 人機(jī)界面 | 定制 | |
等離子發(fā)生器功率 | 射頻13.56MH z,0-500W可調(diào) | 國(guó)產(chǎn) | |
真空泵系統(tǒng) | 真空泵組 | 國(guó)產(chǎn) | |
真空測(cè)定系統(tǒng) | 皮拉尼式真空計(jì) | 進(jìn)口 | |
PLC系統(tǒng) | 西門子 | 普樂(lè)斯自主研發(fā) | |
額定功率 | 5KW | ||
機(jī)臺(tái)供電 | AC-380V/三相五線式 |
工作原理

應(yīng)用領(lǐng)域
1. 引線框架
銅引線框架:處于對(duì)性能和成本的考慮,微電子封裝領(lǐng)域目前主要采用導(dǎo)熱性、導(dǎo)電性、加工性能良好的銅合金材料作為引線框架。銅的氧化物與其它一些有機(jī)污染物會(huì)造成密封模塑與銅引線框架的分層,造成封裝后密封性能變差與慢性滲氣現(xiàn)象,同時(shí)也會(huì)影響芯片的粘接和引線鍵合質(zhì)量,銅引線框架經(jīng)過(guò)等離子表面處理,可去除有機(jī)物和氧化層,同時(shí)活化和粗化表面,確保打線和封裝的可靠性。
2. 引線鍵合
引線鍵合:引線鍵合的質(zhì)量對(duì)微電子器件的可靠性有決定性影響,鍵合區(qū)必須無(wú)污染物并具有良好的鍵合特性。污染物的存在,如氧化物、有機(jī)污染物等都會(huì)嚴(yán)重削弱引線鍵合的拉力值。半導(dǎo)體封裝等離子表面處理設(shè)備能有效去除鍵合區(qū)的表面污染物并使其粗糙度增加,能明顯提高引線的鍵合拉力,極大的提高封裝器件的可靠性。
3. 倒裝芯片封裝
倒裝芯片封裝:隨著倒裝芯片封裝技術(shù)的出現(xiàn),半導(dǎo)體封裝等離子表面處理設(shè)備清洗已成為其提高產(chǎn)量的必要條件。對(duì)芯片以及封裝載板進(jìn)行等離子表面處理,不但能得到超凈化的焊接表面,同時(shí)還能大大提高焊接表面的活性,這樣可以有效防止虛焊和減少空洞,提高填充料的邊緣高度和包容性,改善封裝的機(jī)械強(qiáng)度,降低因不同材料的熱膨脹系數(shù)而在界面間形成內(nèi)應(yīng)的剪切力,提高產(chǎn)品可靠性和壽命。
4. 陶瓷封裝
陶瓷封裝:陶瓷封裝中通常使用金屬漿料印制線路板作鍵合區(qū)、蓋板密封區(qū)。在這些材料的表面電鍍Ni、Au前采用等離子表面處理設(shè)備清洗,可去除有機(jī)物鉆污,明顯提高鍍層質(zhì)量。
榮譽(yù)資質(zhì)
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