滿足半導(dǎo)體封裝多項要求的等離子清洗機(jī)設(shè)備
文章導(dǎo)讀：半導(dǎo)體封裝領(lǐng)域有其行業(yè)特殊性，相比于其余常規(guī)的電子產(chǎn)品對等離子表面處理的要求，半導(dǎo)體封裝對等離子清洗機(jī)設(shè)備的均勻性、Particle即微粒數(shù)量、UPH指標(biāo)提出了更高的處理要求，所以一般都是在低壓狀態(tài)下對所需處理的產(chǎn)品進(jìn)行等離子表面處理，所用的設(shè)備便是真空式等離子清洗機(jī)設(shè)備。
半導(dǎo)體封裝領(lǐng)域有其行業(yè)特殊性，相比于其余常規(guī)的電子產(chǎn)品對等離子表面處理的要求，半導(dǎo)體封裝對等離子清洗機(jī)設(shè)備的均勻性、Particle即微粒數(shù)量、UPH指標(biāo)提出了更高的處理要求，所以一般都是在低壓狀態(tài)下對所需處理的產(chǎn)品進(jìn)行等離子表面處理，所用的設(shè)備便是真空式等離子清洗機(jī)設(shè)備。半導(dǎo)體封裝行業(yè)所用的等離子清洗機(jī)設(shè)備分類方式更為細(xì)致，常見的有以下幾種方式：
按等離子清洗機(jī)設(shè)備的運(yùn)行方式：可分為獨(dú)立式等離子清洗設(shè)備和在線式等離子清洗設(shè)備。
獨(dú)立式等離子清洗機(jī)設(shè)備也叫離線式、單體式、批量式的等離子清洗設(shè)備，其主要包括等離子發(fā)生系統(tǒng)、排氣系統(tǒng)、溫控系統(tǒng)、氣路控制系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)、電氣控制系統(tǒng)、真空發(fā)生系統(tǒng)、鈑金件組成。
在線式等離子清洗機(jī)設(shè)備也叫連續(xù)式、不間斷式等離子清洗設(shè)備，在線式等離子清洗設(shè)備是在獨(dú)立式的基礎(chǔ)上，滿足產(chǎn)品處理均勻性和一致性同時，為提高自動化的程度，減少人工參與的需要而設(shè)計的。因此其主要組成部分在上述獨(dú)立式等離子處理設(shè)備的基礎(chǔ)上再增加了：上下料推送機(jī)構(gòu)、上下料放置平臺、上下料提升系統(tǒng)、上下料傳輸系統(tǒng)、上下料撥料機(jī)構(gòu)、對應(yīng)的設(shè)備主體框架。
在線式等離子清洗設(shè)備是在獨(dú)立式的基礎(chǔ)上，為滿足對表面處理均勻性、一致性品質(zhì)要求更高，以提高自動化程度，減少人工參與等需要設(shè)計而成。
按等離子產(chǎn)生的激勵方式分為：電容耦合即CCP、感應(yīng)耦合即ICP、電子回旋共振即ECR等多種等離子清洗機(jī)設(shè)備。
按等離子發(fā)生器的工作頻率來分，又有中頻即低頻、高頻即射頻，微波這三種真空等離子處理系統(tǒng)。
不同激發(fā)頻率所產(chǎn)生的等離子體的特性與能量也是不同的，在這方面普樂斯有些經(jīng)驗可與大家分享：當(dāng)產(chǎn)品處理需側(cè)重物理清洗時，用中頻等離子清洗設(shè)備效果更好；當(dāng)產(chǎn)品處理側(cè)重在化學(xué)清洗時，用微波等離子清洗設(shè)備效果更好；此外，如果產(chǎn)品處理是物化反應(yīng)兼顧的，射頻等離子清洗設(shè)備處理效果更好。除等離子激發(fā)頻率外，電極結(jié)構(gòu)、工藝氣體、真空度、處理時間等，也都是影響等離子表面處理效果的關(guān)鍵因素。
普樂斯電子10年專注研制等離子清洗機(jī)，等離子清洗設(shè)備，等離子表面處理機(jī)，等離子表面處理設(shè)備，已通過ISO9001質(zhì)量體系和歐盟CE認(rèn)證，為電子、半導(dǎo)體、汽車、yi療等領(lǐng)域的客戶提供清洗，活化，刻蝕，涂覆的等離子表面處理解決方案，是行業(yè)內(nèi)值得信賴的等離子清洗機(jī)廠家。如果您想要了解更多關(guān)于產(chǎn)品的詳細(xì)內(nèi)容或在設(shè)備使用中有疑問，歡迎點(diǎn)擊普樂斯的在線客服進(jìn)行咨詢，或者直接撥打全國統(tǒng)一服務(wù)熱線400-816-9009，普樂斯恭候您的來電！
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