【普樂斯】卷對卷低溫等離子表面處理機
品牌:普樂斯
名稱:卷對卷低溫等離子表面處理機
型號:RTR1000L-W500
規(guī)格:6900mm(W)×1650mm(D)×11500mm(H)
功率: 約30KW
用途:卷對卷低溫等離子表面處理機主要為FPC制造廠家定制,用于FPC前段銅箔孔內(nèi)除膠及表面清洗;同時可用于其他卷材的表面處理。
參考價格:
名稱:卷對卷低溫等離子表面處理機
型號:RTR1000L-W500
規(guī)格:6900mm(W)×1650mm(D)×11500mm(H)
功率: 約30KW
用途:卷對卷低溫等離子表面處理機主要為FPC制造廠家定制,用于FPC前段銅箔孔內(nèi)除膠及表面清洗;同時可用于其他卷材的表面處理。
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訂購熱線:400-816-9009
咨詢熱線:400-816-9009
產(chǎn)品特點
1、卷對卷低溫等離子表面處理機可將材料整卷放入真空室內(nèi)進行處理,處理過程中自動完成收放卷;
2、可對FPC的銅箔實現(xiàn)整卷的孔內(nèi)除膠及表面清洗,提高生產(chǎn)效率及良率;
3、可處理各種金屬、高分子材料的柔性卷材及成卷的線材。
2、可對FPC的銅箔實現(xiàn)整卷的孔內(nèi)除膠及表面清洗,提高生產(chǎn)效率及良率;
3、可處理各種金屬、高分子材料的柔性卷材及成卷的線材。
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產(chǎn)品參數(shù)
機臺配置 | 規(guī)格描述 | 產(chǎn)地 | 備注 |
---|---|---|---|
機臺整機規(guī)格 | 6900mm(W)×1650mm(D)×11500mm(H) | 普樂斯 |
1、工作真空度:20-100Pa
2、真空泵ji限壓力:4.0×10-1Pa 3、抽真空時間:≤120S 4、破真空時間:20-40S 5、供氣方式:電磁閥式 6、流量計調(diào)節(jié)范圍:0-300Sccm(毫升/分鐘 7、產(chǎn)能:根據(jù)產(chǎn)品規(guī)格而定 8、處理時間:工藝不同,處理時間不同 9、操作方式:人工取放工件,一鍵啟動自動控制 |
處理寬幅 | <520mm | 普樂斯 | |
電極板規(guī)格 | 450mm(W)×320mm(D) | 定制 | |
冰水機 | AC380V3PH50/60HZ//、3KW | 定制 | |
等離子發(fā)生器功率 | 40KHZ,20KW可調(diào) | 國產(chǎn) | |
真空泵系統(tǒng) | 干泵機組(螺桿泵+羅茨泵)120m3/h+1800m3/h | 國產(chǎn) | |
真空測定系統(tǒng) | 皮拉尼式真空計 | 進口 | |
PLC系統(tǒng) | 西門子 | 普樂斯自主研發(fā) | |
額定功率 | 5KW | ||
機臺供電 | AC-380V/三相五線式 |
注:以上參數(shù)僅供參考,本公司可能對相關(guān)產(chǎn)品參數(shù)進行調(diào)整,如有變動,恕不再另行通知。若有不明處,歡迎來電詢問。
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工作原理
在真空狀態(tài)下,壓力越來越小,分子間間距越來越大,分子間力越來越小,利用高頻源產(chǎn)生的高壓交變電場將氧、氬、氫、四氟化碳等工藝氣體震蕩成具有高反應活性或高能量的等離子體,然后與有機污染物及微顆粒污染物反應或碰撞形成揮發(fā)性物質(zhì),然后由工作氣體流及真空泵將這些揮發(fā)性物質(zhì)清除出去,從而達到表面清潔、活化等目的。如圖所示:


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應用領(lǐng)域
1. 電路板/柔性板
FPC板:多層軟板的孔壁除殘膠,補強材料如鋼片、鋁片、FR-4等表面清潔和活化,以及激光切割金手指形成的碳化物分解,都可以通過等離子清洗機來實現(xiàn)。
軟硬結(jié)合板:軟硬結(jié)合板是由幾種不同熱膨脹系數(shù)的材料層壓在一起組成,孔壁及層與層之間的線路連接容易產(chǎn)生斷裂和撕裂現(xiàn)象,利用卷對卷低溫等離子表面處理機對材料進行清潔、粗化、活化處理,可以提高軟硬結(jié)合板孔金屬化的可靠性和線路層壓間的結(jié)合力。
2. 天然纖維和化學纖維
天然纖維和化學纖維:卷對卷低溫等離子處理機中含有大量的、種類繁多的活性粒子,這些活性粒子與纖維接觸,能使其表面發(fā)生刻蝕、氧化、還原、交聯(lián)、聚合、接枝等反應,引起纖維表面化學成分和物理化學性質(zhì)的變化,如改變纖維表面的親水性、粘接性、可染性、防縮性、防污性及導電性等。
快速反應,專業(yè)配合,精心打造服務生態(tài)鏈
1年質(zhì)保,終身維護,提供配套服務
承諾到達現(xiàn)場的時限:昆山4小時,蘇州8小時,江浙滬24小時,其他區(qū)域48小時
咨詢熱線:400-816-9009
榮譽資質(zhì)
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