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晶圓級(jí)封裝表面處理所用的等離子清洗機(jī)

返回列表 來源：普樂斯 瀏覽：次 發(fā)布日期：2019-07-10 16:50【大 中 小】
文章導(dǎo)讀：晶圓級(jí)封裝前處理的目的是去除表面的無機(jī)物，還原氧化層，增加銅表面的粗糙度，提高產(chǎn)品的可靠性。目前，行業(yè)內(nèi)普遍使用等離子清洗機(jī)進(jìn)行超潔凈清洗和表面粗化處理。
晶圓級(jí)封裝（WLP，Wafer Level Package）是先進(jìn)的芯片封裝方式之一，就是指，當(dāng)整片晶圓生產(chǎn)完成后，直接在晶圓上面進(jìn)行封裝和測(cè)試，然后把整個(gè)晶圓切割開來分成單顆晶粒；電氣連接部分采用使用銅凸塊（Copper Bump）取代打線（Wire Bond）的方法，所以沒有打線或填膠工藝。晶圓級(jí)封裝表面處理使用等離子清洗機(jī)有何優(yōu)勢(shì)呢？普樂斯來為大家介紹。
晶圓表面-普樂斯等離子清洗機(jī)
晶圓級(jí)封裝前處理的目的是去除表面的無機(jī)物，還原氧化層，增加銅表面的粗糙度，提高產(chǎn)品的可靠性。由于產(chǎn)能的需要，真空反應(yīng)腔體、電極結(jié)構(gòu)、氣流分布、水冷裝置、均勻性等方面的不同考慮，等離子清洗機(jī)在設(shè)計(jì)上會(huì)有顯著區(qū)別。
晶圓級(jí)封裝光刻膠去除的等離子清洗機(jī)放電狀態(tài)-普樂斯等離子清洗機(jī)
為什么晶圓級(jí)封裝表面處理必須選用等離子清洗機(jī)呢？原因很簡(jiǎn)單：芯片制作完成后殘余的光刻膠是無法使用濕式法來清洗的，只能通過等離子的方式進(jìn)行去除。此外，我們無法確定光刻膠較厚，因此我們需要通過多次試驗(yàn)來調(diào)整相應(yīng)的工藝參數(shù)，以達(dá)到最佳的處理效果。上圖是晶圓級(jí)封裝光刻膠去除的等離子清洗機(jī)放電狀態(tài)。

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    ‌環(huán)保節(jié)能‌：無需使用化學(xué)溶劑，減少廢水廢氣排放，符合綠色生產(chǎn)要求，且能耗低。

    ‌廣泛適用‌：適用于多種材料表面，包括金屬、陶瓷、玻璃、塑料等，不會(huì)對(duì)材料性能產(chǎn)生負(fù)面影響。

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