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普樂斯電子

普樂斯15年專注等離子清洗機(jī)研制低溫等離子表面處理系統(tǒng)方案解決商

業(yè)務(wù)咨詢熱線:400-816-9009免費(fèi)等離子清洗機(jī)處理樣品

熱門關(guān)鍵字:應(yīng)用方案 大氣等離子清洗機(jī) 真空等離子清洗機(jī) 等離子清洗機(jī)廠家

【普樂斯】晶圓級(jí)封裝等離子清洗設(shè)備PR240L

品牌:普樂斯
名稱:晶圓級(jí)封裝等離子清洗設(shè)備
型號(hào):PR240L
規(guī)格:1450mm(W)×1200mm(D)×1720mm(H)
功率: 約4KW
用途:
晶圓級(jí)封裝等離子清洗設(shè)備主要為3DIC和TSV晶圓級(jí)芯片尺寸封裝和測(cè)試服務(wù)廠家定制,等離子表面處理工藝在晶圓制造中用于表面清潔、表面活化、光刻膠去除、植球前清洗等各種工藝。
參考價(jià)格:


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產(chǎn)品特點(diǎn)

1、晶圓級(jí)封裝等離子清洗設(shè)備水冷電極結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),有效控制真空室內(nèi)的工作溫度;

2、可有效去除表面Particle;

3、處理均勻性好;

4、有效提升硅片與膠層的結(jié)合力;

5、根據(jù)晶圓制造的工藝不同,設(shè)計(jì)專用托架,提升設(shè)備性能、避免不良影響。
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產(chǎn)品參數(shù)

機(jī)臺(tái)配置 規(guī)格描述 產(chǎn)地 備注
機(jī)臺(tái)整機(jī)規(guī)格 1450mm(W)×1200mm(D)×1720mm(H) 普樂斯
1、工作真空度:20-100Pa
2、真空泵極限壓力:4.0×10-1Pa
3、抽真空時(shí)間:≤120S
4、破真空時(shí)間:20-40S
5、供氣方式:電磁閥式
6、流量計(jì)調(diào)節(jié)范圍:0-300Sccm(毫升/分鐘
7、產(chǎn)能:根據(jù)產(chǎn)品規(guī)格而定
8、處理時(shí)間:工藝不同,處理時(shí)間不同
9、操作方式:人工取放工件,一鍵啟動(dòng)自動(dòng)控制
真空室規(guī)格 600mm(W)×600mm(D)×600mm(H)進(jìn)口鋁 普樂斯
電極板規(guī)格 570mm(W)×490mm(D),10層 定制
托架規(guī)格 570mm(W)×490mm(D),5層 定制
等離子發(fā)生器功率 射頻13.56MHZ, 0-1000W可調(diào)) 國(guó)產(chǎn)
真空泵系統(tǒng) 機(jī)械真空泵組 國(guó)產(chǎn)
真空測(cè)定系統(tǒng) 皮拉尼式真空計(jì) 進(jìn)口
PLC系統(tǒng) 西門子 普樂斯自主研發(fā)
額定功率 5KW  
機(jī)臺(tái)供電 AC-380V/三相五線式  

注:以上參數(shù)僅供參考,本公司可能對(duì)相關(guān)產(chǎn)品參數(shù)進(jìn)行調(diào)整,如有變動(dòng),恕不再另行通知。若有不明處,歡迎來電詢問。
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工作原理

在真空狀態(tài)下,壓力越來越小,分子間間距越來越大,分子間力越來越小,利用高頻源產(chǎn)生的高壓交變電場(chǎng)將氧、氬、氫、四氟化碳等工藝氣體震蕩成具有高反應(yīng)活性或高能量的等離子體,然后與有機(jī)污染物及微顆粒污染物反應(yīng)或碰撞形成揮發(fā)性物質(zhì),然后由工作氣體流及真空泵將這些揮發(fā)性物質(zhì)清除出去,從而達(dá)到表面清潔、活化等目的。如圖所示:
真空等離子工作原理
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應(yīng)用領(lǐng)域

1. 晶圓


去除光刻膠:傳統(tǒng)的濕化學(xué)方法去除晶圓表面的光刻膠存在反應(yīng)不能精準(zhǔn)控制,清洗不徹底,容易引入雜質(zhì)等缺點(diǎn)。而作為干式方法的晶圓級(jí)封裝等離子清洗設(shè)備表面處理可控性強(qiáng),一致性好,不僅可以徹底去除光刻膠和其他有機(jī)物,而且還可以活化和粗化晶圓表面,提高晶圓表面浸潤(rùn)性。

2. 引線框架


銅引線框架:處于對(duì)性能和成本的考慮,微電子封裝領(lǐng)域目前主要采用導(dǎo)熱性、導(dǎo)電性、加工性能良好的銅合金材料作為引線框架。銅的氧化物與其它一些有機(jī)污染物會(huì)造成密封模塑與銅引線框架的分層,造成封裝后密封性能變差與慢性滲氣現(xiàn)象,同時(shí)也會(huì)影響芯片的粘接和引線鍵合質(zhì)量,經(jīng)過晶圓級(jí)封裝等離子清洗設(shè)備表面處理銅引線框架,可去除有機(jī)物和氧化層,同時(shí)活化和粗化表面,確保打線和封裝的可靠性。

3. 引線鍵合



引線鍵合:引線鍵合的質(zhì)量對(duì)微電子器件的可靠性有決定性影響,鍵合區(qū)必須無(wú)污染物并具有良好的鍵合特性。污染物的存在,如氧化物、有機(jī)污染物等都會(huì)嚴(yán)重削弱引線鍵合的拉力值。等離子清洗設(shè)備表面處理能有效去除鍵合區(qū)的表面污染物并使其粗糙度增加,能明顯提高引線的鍵合拉力,極大的提高封裝器件的可靠性。

4. 倒裝芯片封裝



倒裝芯片封裝:隨著倒裝芯片封裝技術(shù)的出現(xiàn),等離子清洗設(shè)備表面處理已成為其提高產(chǎn)量的必要條件。對(duì)芯片以及封裝載板進(jìn)行等離子表面處理,不但能得到超凈化的焊接表面,同時(shí)還能大大提高焊接表面的活性,這樣可以有效防止虛焊和減少空洞,提高填充料的邊緣高度和包容性,改善封裝的機(jī)械強(qiáng)度,降低因不同材料的熱膨脹系數(shù)而在界面間形成內(nèi)應(yīng)的剪切力,提高產(chǎn)品可靠性和壽命。

5. 陶瓷封裝



陶瓷封裝:陶瓷封裝中通常使用金屬漿料印制線路板作鍵合區(qū)、蓋板密封區(qū)。在這些材料的表面電鍍Ni、Au前采用晶圓級(jí)封裝等離子清洗設(shè)備表面處理,可去除有機(jī)物鉆污,明顯提高鍍層質(zhì)量。

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榮譽(yù)資質(zhì)

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