小技巧｜等離子清洗機氣體選擇有哪些細節(jié)之處
文章導讀：等離子清洗機的干式處理是通過將導電氣體電離產生等離子體，從而對工件表面進行處理，氣體種類不同，其氣體特性也不相同，對處理的效果也有影響。
在之前分享的“影響等離子表面處理效果的設備的工藝參數有哪些?”文章已經提到，等離子清洗機的處理效果是受氣體特性所影響的，感興趣的小伙伴可以點擊進行回顧。等離子表面處理是一項非常精細的處理工藝，部分處理的產品對表面處理效果要求很高，有些甚至可以用苛求來形容，因此，每一項工藝參數都值得反復推敲，在等離子清洗機的氣體選擇上，普樂斯也有一些經驗可與大家分享。
常用于等離子表面處理的氣體有氮氣、氧氣、氬氣、氫氣以及具有腐蝕性的四氟化碳。以上這些氣體有哪些特性呢？選擇時有哪些細節(jié)需要注意呢？
1. 氧氣
氧氣具有較好的活性，氧化反應也是我們常見的一種反應，電離后形成的氧離子非常適用于聚合物的表面活化和有機污染物的去除，但因其具有高氧化性，所以是不能處理金屬材料表面的。
2. 氫氣
相信大家對氫氣也有了解，它是一種易燃易爆的氣體，在等離子表面處理過程中一般是不能與其他非惰性氣體混用的，此外，氫氣具有還原性屬性，能夠適當去除一些金屬的表面氧化層，這一特點適用于精密的半導體和線路板領域。
3. 氮氣
氮的相對原子質量是14，且自身具有較好活性，可實現清洗、活化、刻蝕的功能，并且在過程中一定程度防止金屬氧化，因此氮氣在實際應用中較多。
4. 氬氣
氬氣是常見的惰性氣體，因此使用氬氣進行等離子處理，僅發(fā)生物理反應，可通過物理轟擊達到清潔和表面粗化的效果，處理過程中不會氧化基材，在一些精密元器件上使用較多。
5. 四氟化碳
四氟化碳是一種應用在等離子處理上典型的腐蝕性氣體，四氟化碳在經電離之后的等離子體是含有氫氟酸的，可以對有機材料表面刻蝕及有機物去除，等離子清洗機在用于晶圓納米級刻蝕及光刻膠去除、線路板的微孔除膠、太陽能電池板制造等方面使用四氟化碳較多。
氣體自身的特性不同，所適用的處理材料和條件也不同，普樂斯電子9年專注研制等離子清洗機，等離子表面處理設備，如果您想要了解更多關于等離子表面處理的詳細內容或在使用中對影響參數有疑問，歡迎點擊普樂斯的在線客服進行咨詢，或者直接撥打全國統(tǒng)一服務熱線400-816-9009，普樂斯恭候您的來電！
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