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等離子體氣相沉積是一種什么工藝,有什么特點呢?

返回列表 來源:普樂斯 瀏覽: 發(fā)布日期:2022-10-28 13:51【
文章導讀:等離子體氣相沉積是一種表面處理工藝,它是應(yīng)用等離子體進行反應(yīng),激活氣體,在基體的表面生成固態(tài)膜的一種技術(shù),它通過高能量的電場對氣體進行電離,形成等離子體,等離子體與工藝氣體進行反應(yīng)形成膜,貼附在基體的表面。這項工藝分為等離子體物理氣相沉積和等離子體化學氣相沉積,這兩者有哪些不同呢?
等離子體氣相沉積是一種表面處理工藝,它是應(yīng)用等離子體進行反應(yīng),激活氣體,在基體的表面生成固態(tài)膜的一種技術(shù),它通過高能量的電場對氣體進行電離,形成等離子體,等離子體與工藝氣體進行反應(yīng)形成膜,貼附在基體的表面。這項工藝分為等離子體物理氣相沉積和等離子體化學氣相沉積,這兩者有哪些不同呢?
真空等離子清洗機
我們從兩者特點、實質(zhì)、應(yīng)用三個角度進行對比:
一、特點:
等離子體物理氣相沉積:這種工藝中沉積粒子的能量可調(diào)節(jié),在等離子體非平衡過程中,整個反應(yīng)活性更高,膜層質(zhì)量也更出色。
等離子體化學氣相沉積:這種工藝中膜的純度高、結(jié)晶狀態(tài)好、致密性好,在反應(yīng)中氣體與反應(yīng)物互相擴散,膜的附著力得到了保證,有利于膜的貼合,同時抗蝕、耐磨、鈍化等效果也出色。
等離子氣相沉積
二、實質(zhì):
等離子體物理氣相沉積:在反應(yīng)中通過蒸發(fā)、濺射等物理的方式是鍍膜材料氣化,隨后在基體表面沉積成膜。
等離子體化學氣相沉積:直接使用氣態(tài)或者蒸發(fā)態(tài)的物質(zhì)在氣相或氣固界面進行翻譯,生產(chǎn)固態(tài)的沉積物,結(jié)晶成膜。
三、應(yīng)用:
等離子體物理氣相沉積:這項技術(shù)在工業(yè)應(yīng)用中已經(jīng)廣泛使用,實現(xiàn)了工業(yè)化的生產(chǎn)。
等離子體化學氣相沉積:鍍膜的產(chǎn)品涉及行業(yè)廣泛,實用性得到了很多行業(yè)的認可。
等離子體氣相沉積
總體來看,等離子體氣相沉積技術(shù)比起過去的氣相沉積工藝有獨特的優(yōu)勢以及應(yīng)用方式,同時等離子體的介入會促使氣體分子的化學鍵斷裂和重組,生成活性基團,還能降低反應(yīng)溫度等等,是原本高溫下的氣相沉積可以在低溫進行。
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