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微波等離子體設(shè)備廠家

返回列表 來(lái)源:普樂(lè)斯 瀏覽:5245 發(fā)布日期:2025-04-03 09:52【
文章導(dǎo)讀:微波等離子體設(shè)備是一款特種等離子表面處理設(shè)備,能夠帶來(lái)等離子體刻蝕的效果,解決半導(dǎo)體、醫(yī)療器械、高分子材料等領(lǐng)域的表面處理問(wèn)題。
微波等離子體設(shè)備的應(yīng)用領(lǐng)域十分廣泛,主要包括以下幾個(gè)方面:
半導(dǎo)體行業(yè)
光刻膠去除:在晶圓制造過(guò)程中,能精準(zhǔn)去除表面的光刻膠,為后續(xù)工藝提供潔凈的表面。
芯片清洗:有效清除芯片表面的顆粒雜質(zhì)和有機(jī)污染物,提升芯片性能與良品率。
封裝表面活化:在半導(dǎo)體封裝階段,對(duì)封裝器件表面進(jìn)行活化處理,增強(qiáng)與封裝材料的粘結(jié)強(qiáng)度,保障封裝的可靠性和穩(wěn)定性。
晶圓
醫(yī)療器材制造行業(yè)
植入式醫(yī)療器械:處理后可提高其生物相容性,降低人體排異反應(yīng)風(fēng)險(xiǎn)。
醫(yī)用不銹鋼器械:使表面更光滑,抗菌性能顯著提升。
高分子材料醫(yī)療器械:可實(shí)現(xiàn)表面親水性改性,提升在醫(yī)療使用中的功能性和安全性。
材料科學(xué)領(lǐng)域
薄膜制備:如利用微波等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(MPECVD)技術(shù)生長(zhǎng)金剛石薄膜、碳納米管、氮化硅、碳化硅等超硬膜。
材料表面改性:對(duì)金屬、陶瓷、高分子等材料進(jìn)行表面改性,改善材料的表面性能,如提高硬度、耐磨性、耐腐蝕性等。
納米材料合成:用于合成各種納米材料,如納米顆粒、納米線、納米管等。
PP材料
電子領(lǐng)域
電子散熱:在電子元件表面生長(zhǎng)金剛石薄膜,利用金剛石極高的熱導(dǎo)率,提高元件的散熱能力。
微波器件制造:利用金剛石的高介電常數(shù)和低損耗特性,制造微波濾波器、天線等高性能微波器件。
微波
航空航天領(lǐng)域
材料表面處理:對(duì)航空航天材料進(jìn)行表面改性,提高材料的耐高溫、耐腐蝕、耐磨損等性能,延長(zhǎng)材料的使用壽命。
發(fā)動(dòng)機(jī)部件處理:用于發(fā)動(dòng)機(jī)葉片、燃燒室等部件的表面涂層制備和處理,提高部件的性能和可靠性。

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    產(chǎn)品名稱:實(shí)驗(yàn)型等離子清洗機(jī) 小型真空等離子處理設(shè)備PLAUX-PR-10L

    ‌高效徹底‌:能夠深入微納米級(jí)孔隙中,徹底清除難以觸及的污染物。

    ‌環(huán)保節(jié)能‌:無(wú)需使用化學(xué)溶劑,減少?gòu)U水廢氣排放,符合綠色生產(chǎn)要求,且能耗低。

    ‌廣泛適用‌:適用于多種材料表面,包括金屬、陶瓷、玻璃、塑料等,不會(huì)對(duì)材料性能產(chǎn)生負(fù)面影響。

    ‌工藝可控‌:通過(guò)調(diào)整工作氣體種類、壓力、功率等參數(shù),可精確控制清洗過(guò)程‌。


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    在材料及產(chǎn)品生產(chǎn)、加工、轉(zhuǎn)運(yùn)的過(guò)程中,材料表面由于存在靜電,表面會(huì)自帶或吸附微塵,影響成品質(zhì)量。隨著各行業(yè)表面潔 凈度要求不斷提高,對(duì)微小雜質(zhì)和粉塵的去除愈加重要。非接觸表面清潔有無(wú)接觸、設(shè)備小、成本低、耗材少、易實(shí)施等優(yōu)點(diǎn),近年 來(lái)在各個(gè)行業(yè)均有較快的發(fā)展。

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    產(chǎn)品名稱:色差儀 色差寶 顏色檢測(cè)精密色差儀測(cè)色儀便攜式取色器
    色差儀領(lǐng)域一款強(qiáng)大的測(cè)色工具,優(yōu)秀的性能配置,讓色彩測(cè)量更準(zhǔn)確;儀器可與安卓或IOS設(shè)備無(wú)線連接,極大的拓展了顏色測(cè)量?jī)x器的應(yīng)用邊界;它帶您進(jìn)入色彩管理新世界,可替代印刷、涂料、紡織等色卡,實(shí)現(xiàn)顏色讀取、色卡查找功能。

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    接觸角測(cè)量?jī)x是一種用于測(cè)量表面張力和潤(rùn)濕性能的儀器,廣泛應(yīng)用于化學(xué)、材料、生物等領(lǐng)域。接觸角測(cè)量?jī)x校準(zhǔn)規(guī)范是確保測(cè)試結(jié)果準(zhǔn)確可靠的重要環(huán)節(jié)。


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    產(chǎn)品名稱:雙腔體等離子處理機(jī) 晶圓等離子清洗設(shè)備PLAUX-JY-60LS

    ‌雙腔體等離子處理機(jī)主要用于晶圓表面等離子處理‌是一種通過(guò)等離子體對(duì)晶圓表面進(jìn)行改性的技術(shù),具有高效、環(huán)保等優(yōu)點(diǎn),廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、先進(jìn)封裝等領(lǐng)域。

     
     

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