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普樂斯12年專注等離子清洗機研制低溫等離子表面處理系統(tǒng)方案解決商

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品牌強企,祝賀普樂斯“PLAUX”商標成功續(xù)展!

返回列表 來源:普樂斯 瀏覽: 發(fā)布日期:2021-03-19 13:10【
文章導讀:近日,昆山市普樂斯電子科技有限公司(以下簡稱普樂斯)申請續(xù)展“PLAUX”商標獲得通過,經國家知識產權局商標局核準審批,普樂斯商標有效期將延續(xù)至2032年。這不僅標志著普樂斯品牌的等離子高新技術獲得國家認可,還表示普樂斯自身非常重視對品牌知識產權的保護。未來,普樂斯將持續(xù)進行品牌深耕,為更多的企業(yè)提供更精準的等離子技術支持。
       近日,昆山市普樂斯電子科技有限公司(以下簡稱普樂斯)申請續(xù)展“PLAUX”商標獲得通過,經國家知識產權局商標局核準審批,普樂斯商標有效期將延續(xù)至2032年。這不僅標志著普樂斯品牌的等離子高新技術獲得國家認可,還表示普樂斯自身非常重視對品牌知識產權的保護。未來,普樂斯將持續(xù)進行品牌深耕,為更多的企業(yè)提供更精準的等離子技術支持。

普樂斯商標續(xù)展
 
      知識產權保護,是指法律給予創(chuàng)造者一定期限內的獨占使用權利,但必須擁有合法規(guī)范的證明,商標是知識產權的重要組成部分,也是企業(yè)品牌規(guī)范證明的重要參考因素,但商標具有時效,普樂斯商標注冊已經快滿10年,為了更好的發(fā)展品牌,繼續(xù)以高質量的服務面對大眾,普樂斯積極響應國家號召,提前給商標續(xù)展,并獲得通過,這無疑是普樂斯品牌發(fā)展過程中重要的一步。

      多年來,普樂斯電子始終重視科技創(chuàng)新,持續(xù)引進高素質人才,加大科研經費投入,加強企業(yè)內部專業(yè)知識培訓,堅持創(chuàng)新推動發(fā)展理念,注重知識產權保護。在成功續(xù)展PLAUX商標后,普樂斯又成功注冊申領了Plasmause商標。普樂斯將始終不忘初心,在提升自身技術研發(fā)創(chuàng)新能力的同時,不斷借鑒和學習高科技領域的前沿品牌戰(zhàn)略和技術文化,以加強自身品牌建設、提升團隊實力。

      未來,普樂斯將繼續(xù)砥礪前行,不斷迭代更新研發(fā)產品,提升等離子清洗機產品種類和品質,滿足不領域同客戶不斷升級的產品需求,多措并舉,嚴把產品質量關,助力企業(yè)更好、更快發(fā)展,為國產等離子清洗機創(chuàng)造更多新價值!


        普樂斯電子12年專注研制等離子清洗機,等離子體清洗機,等離子清洗設備,常壓大氣和低壓真空型低溫等離子表面處理設備,大氣低溫等離子體表面處理系統(tǒng),大氣常壓收放卷等離子表面設備處理,已通過ISO9001質量體系和歐盟CE認證,為電子、半導體、汽車、醫(yī)療等領域的客戶提供清洗、活化、刻蝕、涂覆的等離子表面處理解決方案,是行業(yè)內值得信賴的等離子清洗機廠家。如果您想要了解更多關于產品的詳細內容或在設備使用中有疑問,歡迎點擊普樂斯的在線客服進行咨詢,或者直接撥打全國統(tǒng)一服務熱線400-816-9009,普樂斯隨時恭候您的來電!
 

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