低壓真空等離子清洗機的局限性有哪些?
文章導(dǎo)讀:低壓真空等離子清洗機清洗工藝已被廣泛應(yīng)用于晶圓加工、芯片封裝、傳感器、精密電子和醫(yī)療器械等領(lǐng)域,因為清洗徹底、污染小等眾多優(yōu)點,比之于傳統(tǒng)的濕式清洗方法,是比較先進(jìn)的工藝。但,凡事都具有兩面性,等離子清洗機清洗工藝也有其局限性,接著昨天的內(nèi)容,今天就和普樂斯的小伙伴一起來探討一下等離子清洗機的局限性。
低壓真空等離子清洗機清洗工藝已被廣泛應(yīng)用于晶圓加工、芯片封裝、傳感器、精密電子和醫(yī)療器械等領(lǐng)域,因為清洗徹底、污染小等眾多優(yōu)點,比之于傳統(tǒng)的濕式清洗方法,是比較先進(jìn)的工藝。但,凡事都具有兩面性,等離子清洗機清洗工藝也有其局限性,接著昨天的內(nèi)容,今天就和普樂斯的小伙伴一起來探討一下等離子清洗機的局限性。
低壓真空等離子清洗機清洗的處理對象必須是干凈和干燥的材料,低壓真空等離子清洗機產(chǎn)生的等離子體屬于非平衡式的冷等離子體,與材料表面發(fā)生反應(yīng)的厚度一般是幾十個納米,如果被處理的材料表面有比較明顯的臟污或者是涂層,等離子清洗的效果會大打折扣。一般在等離子清洗前,需要對材料表面做預(yù)處理,例如利用超聲波清洗去除肉眼能看到的顆粒物。材料經(jīng)過超聲波清洗過后,必須要烘干,才能對其進(jìn)入等離子清洗。假如材料表面殘留水分,會影響抽真空的時間;水分過多,隨著真空度的變化,這會嚴(yán)重影響等離子清洗的效果。
等離子清洗對等離子設(shè)備和材料都擁有較高的要求,這是等離子清洗機的局限性之一。
除了以上方面,低壓真空等離子清洗機清洗材料的時候,還要注意材料的擺放位置和方向,不能有遮擋;處理導(dǎo)電材料的時候,要防止與電極之間的距離太近,以免拉弧;當(dāng)然對等離子清洗前后相關(guān)工藝的了解,也是有必要的。
普樂斯電子12年專注研制等離子清洗機,等離子體清洗機,等離子清洗設(shè)備,常壓大氣和低壓真空型低溫等離子表面處理設(shè)備,大氣低溫等離子體表面處理系統(tǒng),大氣常壓收放卷等離子表面設(shè)備處理,已通過ISO9001質(zhì)量體系和歐盟CE認(rèn)證,為電子、半導(dǎo)體、汽車、yi療等領(lǐng)域的客戶提供清洗、活化、刻蝕、涂覆的等離子表面處理解決方案,是行業(yè)內(nèi)值得信賴的等離子清洗機廠家。如果您想要了解更多關(guān)于產(chǎn)品的詳細(xì)內(nèi)容或在設(shè)備使用中有疑問,歡迎點擊普樂斯的在線客服進(jìn)行咨詢,或者直接撥打全國統(tǒng)一服務(wù)熱線400-816-9009,普樂斯隨時恭候您的來電!

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等離子清洗對等離子設(shè)備和材料都擁有較高的要求,這是等離子清洗機的局限性之一。
除了以上方面,低壓真空等離子清洗機清洗材料的時候,還要注意材料的擺放位置和方向,不能有遮擋;處理導(dǎo)電材料的時候,要防止與電極之間的距離太近,以免拉弧;當(dāng)然對等離子清洗前后相關(guān)工藝的了解,也是有必要的。
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